[發明專利]表面等離子體透鏡的批量化制備方法

有效

• 申請號: 201310285392.6
• 申請日: 2013-07-08
• 公開（公告）號: CN103345009A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 虞益挺;苑偉政
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00
• 代理公司: 西北工業大學專利中心 61204
• 代理人: 呂湘連

1.一種用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，主要包括如下基本的工藝步驟：

步驟1：采用旋涂法，在基底（1）的上表面制作得到由納米球（10）緊密排列形成的單層自組裝結構；

步驟2：采用干法或濕法刻蝕技術，對納米球（10）的直徑進行調整；

步驟3：在整個基底（1）以及納米球（10）的上表面淀積一定厚度的第一層金屬薄膜（11），用來形成納米孔（3）；

步驟4：去除基底（1）上的納米球（10）及其表面的第一層金屬薄膜（11），得到完全由納米孔（3）組成的結構陣列；

步驟5：旋涂光刻膠（12）并圖形化，得到圓形凸臺，以此定義透鏡孔徑以及透鏡陣列的排布形式；

步驟6：淀積第二層金屬薄膜（13），用來形成光學阻擋層；

步驟7：去除光刻膠（12）及其表面的第二層金屬薄膜（13），得到最終的表面等離子體透鏡及其陣列。

2.一種用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，主要包括如下基本的工藝步驟：

步驟1：在基底（1）的上表面旋涂光刻膠（12）并圖形化，得到圓形凸臺，以此定義透鏡孔徑以及透鏡陣列的排布形式；

步驟2：淀積第一層金屬薄膜（11），用來形成光學阻擋層；

步驟3：去除光刻膠（12）及其表面的第一層金屬薄膜（11），得到表面等離子體透鏡器件的外圍邊框，其孔徑Ф由光刻膠（12）形成的圓形凸臺決定；

步驟4：在基底（1）以及第一層金屬薄膜（11）的上表面制作得到由納米球（10）緊密排列形成的單層自組裝結構；

步驟5：采用干法或濕法刻蝕技術，對納米球（10）的直徑進行調整；

步驟6：在整個基底1、第一層金屬薄膜（11）以及納米球（10）的上表面淀積第二層金屬薄膜（13），用來形成納米孔（3）；

步驟7：完全去除納米球（10）及其表面的第二層金屬薄膜（13），得到最終的表面等離子體透鏡及其陣列。

3.一種如權利要求1或2所述的用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，其特征在于，所述基底（1）的材料為玻璃、硅或藍寶石。

4.一種如權利要求1或2所述的用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，其特征在于，所述納米球（10）的材質為聚苯乙烯、二氧化硅或金屬。

5.一種如權利要求1或2所述的用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，其特征在于，所述第一層金屬薄膜（11）的材質為金、銀、鋁或銅。

6.一種如權利要求1或2所述的用于表面等離子體透鏡的批量化制備方法，其特征在于，所述第二層金屬薄膜（13）的材質為金、銀、鋁或銅。