[發(fā)明專(zhuān)利]一種無(wú)線射頻鍍銅天線及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310284934.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103367895A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方欽爽 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 溫州格洛博電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01Q1/38 | 分類(lèi)號(hào): | H01Q1/38 |
| 代理公司: | 浙江永鼎律師事務(wù)所 33233 | 代理人: | 王梨華;陳麗霞 |
| 地址: | 325802 浙江省溫州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 無(wú)線 射頻 鍍銅 天線 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及非接觸式自動(dòng)識(shí)別技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及了一種無(wú)線射頻鍍銅天線及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來(lái),國(guó)內(nèi)外RFID電子標(biāo)簽應(yīng)用需求不斷增加,特別是在物流、商品等領(lǐng)域,大規(guī)模應(yīng)用不斷涌現(xiàn)。
RFID電路的一個(gè)重要元件是無(wú)線射頻天線。無(wú)線射頻天線目前一般可通過(guò)利用導(dǎo)電油墨印刷生產(chǎn),或者通過(guò)蝕刻鋁箔制得,或者印刷銀漿導(dǎo)電基電鍍銅制得。但因?yàn)閷?dǎo)電油墨通常缺少導(dǎo)電性與一致性,它提供不了高品質(zhì)的天線,目前市場(chǎng)上基本很少用導(dǎo)電印刷天線;目前市面應(yīng)用最多的是鋁箔蝕刻天線,但相對(duì)銅,鋁的導(dǎo)電性比較差,因此,鋁蝕刻天線仍然不是應(yīng)用需求首選;但通過(guò)印刷銀漿導(dǎo)電基電鍍銅制得銅天線,因?yàn)榇嬖阢y漿油墨成本高、銀漿印刷線條精度差、印刷速度慢、印刷一致性差等難以克服的因素,鍍銅天線不但價(jià)格高,而且難以滿(mǎn)足快速生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中傳統(tǒng)無(wú)線射頻天線導(dǎo)電性能弱、成本高和一致性差缺點(diǎn),提供了一種無(wú)線射頻鍍銅天線及其制備方法。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明通過(guò)下述技術(shù)方案得以解決:
一種無(wú)線射頻鍍銅天線,包括鍍銅層、鋁導(dǎo)電基層和薄膜,鋁導(dǎo)電基層位于鍍銅層與薄膜之間。
作為優(yōu)選,鍍銅層厚度為2—38um;鋁導(dǎo)電基層厚度為0.02—0.18nm。
作為優(yōu)選,薄膜為聚酯薄膜或聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜或聚酰亞胺薄膜。
一種無(wú)線射頻鍍銅天線制備方法,其特征在于包括以下步驟:
步驟一:在薄膜上印刷水洗油墨,印刷的水洗油墨圖案與設(shè)計(jì)天線圖成對(duì)應(yīng)關(guān)系;
步驟二:在薄膜上真空蒸鍍鋁層,形成真空鍍鋁膜,鋁層選用高純鋁,鋁層的電阻低于1歐姆;
步驟三:將真空鍍鋁膜在水中浸泡0.5-2秒,從水中取出之后用高壓超純水沖洗1-3次,薄膜上形成鏤空的天線形狀鋁導(dǎo)電基層,在室溫下超純水的電阻率為15—19MΩ*CM極限值;
步驟四:將含有鏤空的天線形狀鋁導(dǎo)電基層的薄膜浸泡在電鍍槽液通電電鍍,形成鍍銅層,天線成型。
作為優(yōu)選,水洗油墨是用水能沖洗的油墨,油墨按質(zhì)量百分比包括10-30%的低粘度醇或水溶性高分子樹(shù)脂、11—15%的鈦白粉、6—7%的防沉劑、6—7%的吸濕劑、0.7-0.8%的分散劑和20-30%的醇其余組分為水的混合溶劑。
作為優(yōu)選,防沉劑為有機(jī)膨潤(rùn)土,吸濕劑為有硅膠,分散劑為三乙基己基磷酸。
作為優(yōu)選,防沉劑為氣相二氧化硅,吸濕劑為氧化鋁,分散劑為十二烷基硫酸鈉。
作為優(yōu)選,防沉劑為聚酰胺蠟,吸濕劑為分子篩,分散劑為甲基戊醇。
作為優(yōu)選,在步驟一中,天線圖通過(guò)應(yīng)用頻率或電子標(biāo)簽根據(jù)環(huán)境要求模擬推算而成。
作為優(yōu)選,在步驟四中,電鍍槽鍍液組成及操作條件為:硫酸銅168—179g/L,濃硫酸30—80g/L,氯離子30—60mg/L,開(kāi)缸劑9—10mL/L,光亮劑A0.5—0.7mL/L,光亮劑B0.3—0.4mL/L,溫度40—50℃,陰極電流密度2—7A/dm2,磷銅陽(yáng)極磷質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.04%—0.05%。開(kāi)缸劑主要包含芐叉丙酮、平平加和擴(kuò)散劑,芐叉丙酮作為載體,其作用是提高鍍層光亮度;光亮劑中主要包含芐叉丙酮、平平加和擴(kuò)散劑,芐叉丙酮作為載體,光亮劑A與光亮B的區(qū)別在于,光亮劑A中芐叉丙酮的含量大于光亮劑B的含量,其作用是可以提高鍍層的光亮度和分散能力。開(kāi)缸劑與光亮劑A可以互換使用。該工藝所得鍍層不易產(chǎn)生針孔,光澤度高,內(nèi)應(yīng)力低,延展性好,厚度均勻;沉積速度快,鍍液穩(wěn)定,對(duì)雜質(zhì)的容忍度高。
本發(fā)明由于采用了以上技術(shù)方案,具有顯著的技術(shù)效果:
本發(fā)明克服傳統(tǒng)易碎紙上印刷導(dǎo)電銀漿形成的易碎天線導(dǎo)電性能弱、成本高、一致性差的缺陷,不但創(chuàng)造了一種新的高品質(zhì)的無(wú)線射頻天線結(jié)構(gòu),而且創(chuàng)造了一種新的易碎防偽無(wú)線射頻天線的制備方法,這種新的制備方法生產(chǎn)成本低,生產(chǎn)速度快,天線導(dǎo)電性能好的特點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖。
圖2是本發(fā)明的工藝流程圖。
附圖中各數(shù)字標(biāo)號(hào)所指代的部位名稱(chēng)如下:1—鍍銅層、2—鋁導(dǎo)電基層、3—薄膜。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖與實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
實(shí)施例1
一種無(wú)線射頻鍍銅天線,如圖1所示,包括鍍銅層1、鋁導(dǎo)電基層2和薄膜3,鋁導(dǎo)電基層2位于鍍銅層1與薄膜3之間。
鍍銅層1厚度為2um;鋁導(dǎo)電基層2厚度為0.02nm。薄膜3為聚酯薄膜。
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