[發明專利]熱界面均勻性檢測系統及方法有效
| 申請號： | 201310284547.4 | 申請日： | 2013-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN103364101A | 公開（公告）日： | 2013-10-23 |
| 發明（設計）人： | 劉剛;唐曉軍;趙鴻;王超;劉洋;劉磊;王鋼 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號： | G01K11/30 | 分類號： | G01K11/30;G01N21/17 |
| 代理公司： | 工業和信息化部電子專利中心 11010 | 代理人： | 張蕾 |
| 地址： | 100015*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 界面 均勻 檢測 系統 方法 | ||
1.一種熱界面均勻性檢測系統，其特征在于，包括：光源、光學檢測設備、設置在所述光源和所述光學檢測設備之間的光學介質；
所述光學介質的一側設有高溫源，另一側設有低溫源；
通過所述高溫源和所述低溫源作用，使所述光學介質內產生預定溫度梯度的溫度場，所述光學檢測設備對經該溫度場傳播來的光進行檢測確定所述待檢測熱界面是否均勻。
2.根據權利要求1所述的檢測系統，其特征在于，所述高溫源與所述待檢測熱界面之間設有高溫均溫器，所述高溫均溫器用于使所述高溫源上的能量均勻的傳遞到所述待檢測熱體上。
3.根據權利要求1所述的檢測系統，其特征在于，所述光學介質與所述低溫源之間設置有低溫均溫器，所述低溫均溫器用于使所述低溫源上的能量均勻的傳遞到所述光學介質上。
4.根據權利要求1-3任意一項所述的檢測系統，其特征在于，所述光學介質為晶體，玻璃，陶瓷或者其它對檢測光束為透明的材料。
5.根據權利要求1-3任意一項所述的檢測系統，其特征在于，所述光源發出的光束為一束或多束。
6.一種應用權利要求1-5任意一項所述的熱界面均勻性檢測系統的檢測方法，其特征在于，包括：光源、光學檢測設備、設置在所述光源和所述光學檢測設備之間的光學介質；
光源發出的光經光學介質到達光學檢測設備，所述光學檢測設備通過檢測經該溫度場傳播來的光確定所述待檢測熱界面是否均勻。
7.根據權利要求6所述的檢測方法，其特征在于，所述光學檢測設備對經該溫度場傳播來的光進行檢測確定所述待檢測熱界面是否均勻的步驟具體包括：
所述光學檢測設備對經該溫度場傳播來的光進行檢測，當檢測到光斑形狀和位置變化、光強度分布變化，干涉條紋變化或者是波前畸變時，則判定所述待檢測熱界面不均勻，否則，則判定所述待檢測熱界面均勻。
8.根據權利要求6所述的檢測方法，其特征在于，所述高溫源與所述待檢測熱界面之間設有高溫均溫器，通過所述高溫均溫器使所述高溫源上的能量均勻的傳遞到所述待檢測熱體上。
9.根據權利要求6所述的檢測方法，其特征在于，所述光學介質與所述低溫源之間設置有低溫均溫器，通過所述低溫均溫器使所述低溫源上的能量均勻的傳遞到所述光學介質上。
10.根據權利要求6-9任意一項所述的檢測系統，其特征在于，所述光源發出的光束為一束或多束。
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