[發(fā)明專利]光學裝置及其運作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310283723.2
• 申請日: 2013-07-08
• 公開（公告）號: CN103575700A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設計）人: 王威;顏孟新;周忠誠
• 申請（專利權(quán)）人: 明達醫(yī)學科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/45
• 分類號: G01N21/45
• 代理公司: 中國商標專利事務所有限公司 11234
• 代理人: 宋義興;周偉明

1.一種光學裝置，其特征在于，該裝置包含有：

一試片模塊，用以承載一試片，且該試片包含有一檢體；

一光學檢測模塊，用以對該試片中的該檢體進行一深層組織檢測分析；

一輔助模塊，用以對該試片模塊及該光學檢測模塊的運作提供一輔助功能；以及

一數(shù)據(jù)處理模塊，耦接該光學檢測模塊及該輔助模塊，用以分析處理該光學檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)該輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應的一調(diào)控指令至該光學檢測模塊或該輔助模塊。

2.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該輔助模塊為獨立設計或依附于該試片模塊，該輔助模塊所提供的該輔助功能為試片識別輔助功能、試片對準輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能。

3.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該光學檢測模塊是利用一光學干涉技術(shù)對該檢體進行該深層組織檢測分析，且該光學干涉技術(shù)為時域設計或頻域設計。

4.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該試片模塊為有蓋形式或開放形式，且通過物理固化或機械固定方式限制該檢體的移動。

5.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有一符號、一顏色、一圖樣、一文字、一數(shù)字、一條碼、一立體識別區(qū)或一立體對準區(qū)的設計，以提供試片識別輔助功能及試片對準輔助功能。

6.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有單層或多層透光夾層的設計，導入具有不同穿透、吸收及反射特性的流體，以提供變換入射該檢體的入射光的波長或能量。

7.如權(quán)利要求1所述的光學裝置，其特征在于，該輔助模塊是具有聚光及散光特性的設計，以提供焦距調(diào)整功能。

8.一種運作一光學裝置的方法，該光學裝置包含一試片模塊、一光學檢測模塊、一輔助模塊及一數(shù)據(jù)處理模塊，其特征在于，該方法包含下列步驟：

(a)該試片模塊承載包含有一檢體的一試片；

(b)該光學檢測模塊對該試片中的該檢體進行一深層組織檢測分析；

(c)該輔助模塊對該試片模塊及該光學檢測模塊的運作提供一輔助功能；以及

(d)該數(shù)據(jù)處理模塊分析處理該光學檢測模塊所傳送的一信號以產(chǎn)生關(guān)于該檢體的一檢測結(jié)果，或根據(jù)該輔助模塊所傳送的一信息產(chǎn)生相對應的一調(diào)控指令至該光學檢測模塊或該輔助模塊。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，于步驟(c)中，該輔助模塊為獨立設計或依附于該試片模塊，該輔助模塊所提供的該輔助功能為試片識別輔助功能、試片對準輔助功能、檢測條件調(diào)控輔助功能或檢體儲存狀態(tài)監(jiān)控輔助功能。

10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，于步驟(b)中，該光學檢測模塊是利用一光學干涉技術(shù)對該檢體進行該深層組織檢測分析，且該光學干涉技術(shù)為時域設計或頻域設計。