[發(fā)明專利]一種粒子反彈效果的實(shí)現(xiàn)方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310282431.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103400406B | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳偉偉;耿芹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 新奧特(北京)視頻技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T13/00 | 分類號(hào): | G06T13/00 |
| 代理公司: | 北京潤(rùn)澤恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 蘇培華 |
| 地址: | 100195 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 粒子 反彈 效果 實(shí)現(xiàn) 方法 裝置 | ||
1.一種粒子反彈效果的實(shí)現(xiàn)方法,其特征在于,包括:
在粒子系統(tǒng)中添加反射器;
在每一幀需要進(jìn)行渲染時(shí)設(shè)置所述反射器的參數(shù);所述反射器的參數(shù)包括:反射器的活躍性參數(shù)、反射線的起點(diǎn)和反射線的終點(diǎn);
獲取粒子系統(tǒng)的反彈值,作為粒子的反彈值;
依據(jù)所述反射器的參數(shù)和粒子的反彈值計(jì)算粒子的反彈效果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述在粒子系統(tǒng)中添加反射器,包括:
在所述粒子系統(tǒng)中添加多個(gè)點(diǎn)作為反射器的初始端點(diǎn);
將所述反射器的初始端點(diǎn)相連構(gòu)成折線,并將所述折線作為所述反射器的反射線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于:
所述在每一幀需要進(jìn)行渲染時(shí)設(shè)置所述反射器的參數(shù),包括:
設(shè)置所述反射器的活躍性參數(shù),所述活躍性參數(shù)表征所述反射器是否有效;
調(diào)整所述反射器的初始端點(diǎn),將調(diào)整之后的所述端點(diǎn)作為反射線的起點(diǎn)和終點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述依據(jù)所述反射器的參數(shù)和粒子的反彈值計(jì)算粒子的反彈效果,包括:
判斷當(dāng)前幀在所述反射線一側(cè)的粒子,在下一幀是否位于反射線的另一側(cè);
當(dāng)所述粒子下一幀位于反射線的另一側(cè)時(shí),計(jì)算所述粒子在當(dāng)前幀的位置與所述粒子在下一幀的位置構(gòu)成的直線與所述反射線的交點(diǎn);
計(jì)算經(jīng)過所述交點(diǎn)與所述反射線垂直的垂直向量;
計(jì)算所述粒子在當(dāng)前幀的位置與所述粒子在下一幀的位置構(gòu)成的直線關(guān)于所述垂直向量對(duì)稱的直線;
在所述對(duì)稱的直線上,依據(jù)所述粒子的反彈值計(jì)算所述粒子在所述交點(diǎn)處反彈后的位置,并將所述粒子在所述交點(diǎn)處反彈后的位置作為所述粒子的反彈效果。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述判斷當(dāng)前幀在所述反射線一側(cè)的粒子,在下一幀是否位于反射線的另一側(cè),包括:
計(jì)算所述反射線起點(diǎn)和反射線的終點(diǎn)所在的直線方程,作為反射線的直線方程;
將所述粒子在當(dāng)前幀的位置代入所述作為反射線的直線方程的表達(dá)式中,計(jì)算當(dāng)前距離值;
將所述粒子在下一幀的位置代入所述反射線的直線方程的表達(dá)式中,計(jì)算下一距離值;
當(dāng)所述當(dāng)前距離值與所述下一距離值的乘積小于零時(shí),判定所述粒子下一幀位于反射線的另一側(cè)。
6.一種粒子反彈效果的實(shí)現(xiàn)裝置,其特征在于,包括:
添加模塊,用于在粒子系統(tǒng)中添加反射器;
參數(shù)設(shè)置模塊,用于在每一幀需要進(jìn)行渲染時(shí)設(shè)置所述反射器的參數(shù);所述反射器的參數(shù)包括:反射器的活躍性參數(shù)、反射線的起點(diǎn)和反射線的終點(diǎn);
獲取模塊,用于獲取粒子系統(tǒng)的反彈值,作為粒子的反彈值;
效果計(jì)算模塊,用于依據(jù)所述反射器的參數(shù)和粒子的反彈值計(jì)算粒子的反彈效果。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述添加模塊包括:
端點(diǎn)添加子模塊,用于在所述粒子系統(tǒng)中添加多個(gè)點(diǎn)作為反射器的初始端點(diǎn);
反射線子模塊,用于將所述反射器的初始端點(diǎn)相連構(gòu)成折線,并將所述折線作為所述反射器的反射線。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于:
所述參數(shù)設(shè)置模塊包括:
活躍性設(shè)置子模塊,用于設(shè)置所述反射器的活躍性參數(shù),所述活躍性參數(shù)表征所述反射器是否有效;
端點(diǎn)調(diào)整子模塊,用于調(diào)整所述反射器的初始端點(diǎn),將調(diào)整之后的所述端點(diǎn)作為反射線的起點(diǎn)和終點(diǎn)。
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