[發明專利]一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法

無效

• 申請號: 201310282016.1
• 申請日: 2013-07-05
• 公開（公告）號: CN103340043A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 斯琴圖雅;王強;梁宏斌;張玉寶;張曉東
• 申請（專利權）人: 黑龍江省科學院技術物理研究所
• 主分類號: A01C1/00
• 分類號: A01C1/00
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 牟永林

1.一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法為：在粳稻種子播種前用電子射線輻照，輻照劑量為5～20Gy，劑量率為0.125Gy·s^-1，輻照后的粳稻種子即為播種用粳稻種子，所述的電子射線為加速器產生的高能帶電粒子，電子射線的電子能量為0.9MeV。

2.根據權利要求1所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為綏粳4號水稻種子，輻照劑量為5～20Gy。

3.根據權利要求2所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為綏粳4號水稻種子，輻照劑量為5Gy。

4.根據權利要求1所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為中龍粳1號水稻種子，輻照劑量為5～20Gy。

5.根據權利要求4所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為中龍粳1號水稻種子，輻照劑量為15Gy。

6.根據權利要求1所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為龍粳31號水稻種子，輻照劑量為10～20Gy。

7.根據權利要求6所述的一種利用低劑量電子射線輻照處理粳稻種子以提高粳稻芽期耐冷性的方法，其特征在于所述的粳稻種子為龍粳31號水稻種子，輻照劑量為20Gy。