[發(fā)明專利]離子液體電沉積銅銦鎵硒CIGS薄膜材料的制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310281942.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103343373A | 公開(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安茂忠;姬姍姍;連葉;楊培霞;張錦秋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C25D9/04 | 分類號(hào): | C25D9/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150000 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子 液體 沉積 銅銦鎵硒 cigs 薄膜 材料 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于材料技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種離子液體電沉積合金薄膜材料的制備方法。
背景技術(shù)
CuInxGa1-xSe2(CIGS)是黃銅礦結(jié)構(gòu)的Ⅰ-?Ⅲ-?Ⅵ2復(fù)合半導(dǎo)體材料,這種多晶的黃銅礦材料被廣泛用于薄膜光伏系統(tǒng)。為了提高銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)能電池的性能,研究高質(zhì)量的CIGS光吸收層材料是目前最關(guān)鍵的任務(wù)。電沉積過程可以提供高質(zhì)量薄膜,具有較低的成本投入,是多元、高效率的沉積方法,沉積過程溫度較溫和;電沉積應(yīng)用范圍廣泛,沉積鍍層厚度、薄膜組成及結(jié)構(gòu)能夠精確控制,可以在復(fù)雜、多孔表面制備均勻的薄膜,并且電鍍液可重復(fù)利用。作為金屬電沉積的電鍍液,水溶液體系具有一定的局限性:①有限的電化學(xué)窗口;②氣體逸出過程在技術(shù)上很難處理并導(dǎo)致氫脆;③絡(luò)合劑是必要的?;谝陨戏治?,離子液體以其化學(xué)穩(wěn)定性、較寬的電化學(xué)窗口成為合適的選擇,離子液體具有以下特點(diǎn):①通常無色無嗅、蒸氣壓低(離子液體被認(rèn)為有綠色性的重要依據(jù))、非揮發(fā)性;②溶解性強(qiáng)、可形成兩相或多相體系;③可設(shè)計(jì)性。由于以上優(yōu)點(diǎn),離子液體已經(jīng)作為新型電解液體系逐漸成為國(guó)內(nèi)外研究熱點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種采用離子液體1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸鹽(BMI-OTF)作為電解液電沉積CIGS薄膜的方法,解決了采用水溶液體系作為電解液制備CIGS薄膜在薄膜產(chǎn)量和性能重現(xiàn)性方面存在的問題。
本發(fā)明的銅銦鎵硒CIGS薄膜材料由離子液體電沉積制備而成,具體步驟如下:
一、量取15~40ml離子液體1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸鹽(BMIm-OTF)置于密閉電解槽中,然后加入氯化銅、氯化銦、氯化鎵和氯化硒,在30~80℃勻速攪拌2~24?h得到混合液體,所述混合液體中含有5~25mmol/L氯化銅、10~40mmol/L氯化銦、2~7mmol/L氯化鎵和15~55mmol/L氯化硒;
二、采用電沉積的方法,在工作電極的基材上進(jìn)行CIGS薄膜電沉積1~4h,控制電壓為-1.4~-2.2V、溫度為30~80℃。
本方法首次在離子液體1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸鹽(BMI-OTF)體系中通過共沉積方法獲得符合化學(xué)計(jì)量比Cu1InxGa1-xSe2的沉積層。該方法低成本、可重現(xiàn)制造CIGS薄膜太陽(yáng)能電池吸收層,為電沉積其他新型功能材料提供依據(jù)。所述CIGS薄膜為可將基體表面完整覆蓋的黑色/黑紅色薄膜鍍層;CIGS薄膜微觀上為團(tuán)簇狀菜花樣結(jié)構(gòu)并具有含硒的均勻小球狀物質(zhì),硒小球粒徑為250nm~1000nm。
本發(fā)明提出了一種低成本、可重現(xiàn)制造形貌優(yōu)良的CIGS薄膜的新方法,材料制備容易、綜合性能優(yōu)良,工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性好,且其光電轉(zhuǎn)換效率高。本發(fā)明易于操作,得到了具有不同化學(xué)計(jì)量比的CIGS薄膜,本發(fā)明所得材料禁帶寬度可達(dá)到1.55eV,載流子濃度和霍爾系數(shù)分別為2.741×1020?cm-3和2.277×10-2?cm3/C。
附圖說明
圖1為密閉玻璃電解槽結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為電解槽蓋的頂部視圖;
圖3是四元Cu-In-Ga-Se體系的循環(huán)伏安曲線;
圖4是離子液體BMIm-OTF中電沉積CIGS薄膜的微觀形貌圖;
圖5是CIGS薄膜紫外可見吸收光譜;
圖6是導(dǎo)電玻璃上CIGS薄膜的(αhv)2~hν?(eV)?變化曲線(Eg=?1.55?eV)。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的說明,本發(fā)明技術(shù)方案不局限于以下所列舉的具體實(shí)施方式,還包括各具體實(shí)施方式之間的任意組合。凡是對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍,均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍中。
具體實(shí)施方式一:本實(shí)施方式的CIGS薄膜由離子液體電沉積制備而成,具體步驟如下:
1)準(zhǔn)備如下配比的電鍍液:離子液體1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲磺酸鹽(BMIm-OTF)15~40ml,氯化銅5~25mmol/L,氯化銦10~40mmol/L,氯化鎵2~7mmol/L,氯化硒15~55mmol/L。
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