[發明專利]一種新型負性化學放大光刻膠及其成像方法有效
| 申請號: | 201310277171.4 | 申請日: | 2013-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN103309160A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 孫嘉;陳昕;羅杰·森特;李冰;刁翠梅;李海波;韓現濤 | 申請(專利權)人: | 北京科華微電子材料有限公司;北京科華豐園微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/038 | 分類號: | G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京馳納智財知識產權代理事務所(普通合伙) 11367 | 代理人: | 謝亮;趙德蘭 |
| 地址: | 101312 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 化學 放大 光刻 及其 成像 方法 | ||
1.一種新型負性化學放大光刻膠,其包含苯酚類樹脂、光致產酸劑、交聯劑、堿性添加劑、敏化劑和光刻膠溶劑;所述交聯劑能夠與酚羥基或鄰/對位羥甲基官能團發生縮和反應。
2.如權利要求1所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述苯酚類樹脂、光致產酸劑、交聯劑、堿性添加劑、敏化劑和光刻膠溶劑的質量配比為23-26:1-4:28-32:1-2:0-2:65-75。
3.如權利要求2所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述苯酚類樹脂、光致產酸劑、交聯劑、堿性添加劑、敏化劑和光刻膠溶劑的質量配比為25.35:1.5:30:1.5:1.5:70。
4.如權利要求2所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述苯酚類樹脂、光致產酸劑、交聯劑、堿性添加劑、敏化劑和光刻膠溶劑的質量配比為23.85:3.0:30:1.5:1.5:70。
5.如權利要求1-4中任一項所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述苯酚類樹脂是由酚類物質聚合物或酚類物質聚合物與醛類物質縮合聚合得到的線性高分子材料。
6.如權利要求5所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述苯酚類樹脂為聚對羥基苯乙烯樹脂和/或線性酚醛樹脂。
7.如權利要求5所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述酚類物質為苯酚、甲酚、二甲酚、間苯二酚、烷基苯酚和芳烷基苯酚中的任一種或幾種;所述醛類物質為甲醛、乙醛、和糠醛中的任一種或幾種。
8.如權利要求1-4中任一項所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述光致產酸劑為碘鎓鹽、硫鎓鹽和雜環類產酸劑中的任一種或幾種;所述碘鎓鹽、硫鎓鹽和雜環類產酸劑的通式分別如下(1)、(2)、(3):????????????????????????????????????????????????
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8是碳烴化合物(CnHn+1,n=1~6)或苯環及苯環衍生物或含鹵素的碳烴化合物;X、Y是BF4-、ClO4-、PF6-、AsF6-和SbF6-任一種非親核性陰離子。
9.如權利要求1-4中任一項所述的新型負性化學放大光刻膠,其特征在于,所述交聯劑為含醚鍵的雜環類化合物。
10.一種光刻膠成像的方法,包括以下步驟:
1)將權利要求1-15中任一項所述新型負性化學放大光刻膠涂布在基片上,形成光刻膠涂層;
2)將步驟1)中所得光刻膠涂層進行烘烤;
3)將步驟2)中烘烤后的光刻膠涂層進行曝光處理;
4)將步驟3)中曝光后的光刻膠涂層進行烘烤;
5)將步驟4)中烘烤后的光刻膠涂層放在顯影液中進行顯影。
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