[發(fā)明專利]雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310275716.8
• 申請(qǐng)日: 2013-07-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103345051A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 付強(qiáng);張新;史廣維;王靈杰;張建萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G02B17/08
• 分類號(hào): G02B17/08
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 張偉

1.雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)包括：主鏡、次鏡、中繼鏡組和焦平面探測(cè)器；所有部件皆為同光軸放置；其中，主鏡和次鏡為卡塞格林結(jié)構(gòu)；主鏡有中心孔，次鏡放置在主鏡的前方，中繼鏡組和焦平面探測(cè)器放置在次鏡后方；來(lái)自物方的光束經(jīng)主鏡反射后入射到次鏡上，由次鏡反射聚焦，使得目標(biāo)成像在第一像面上；再由中繼鏡組將第一像面上的目標(biāo)轉(zhuǎn)像，通過(guò)焦平面探測(cè)器聚焦；次鏡前表面反射中波紅外，透射長(zhǎng)波紅外；后表面反射長(zhǎng)波紅外；長(zhǎng)波紅外再次通過(guò)前表面回到光路中。

2.如權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于，所述成像系統(tǒng)光譜透過(guò)范圍為3.7μm～4.8μm和8μm～10μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述主鏡的反射面為凹非球面，次鏡的兩個(gè)表面均為凸非球面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述次鏡為曼金鏡，次鏡的厚度范圍為0.5mm～1.5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述次鏡的材料為鍺。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述次鏡的前后表面皆鍍膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述中繼鏡組由沿同一光軸順序放置的第一折射透鏡、第二折射透鏡、第三折射透鏡和第四折射透鏡組成。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述第一折射透鏡基于Ge晶體材料，其前表面為球面，后表面為非球面；第二折射透鏡基于ZNS晶體材料，其前表面和后表面均為球面；第三折射透鏡基于BaF₂晶體材料，其前表面和后表面均為球面；第四折射透鏡基于ZnSe晶體材料，其前表面為非球面，后表面為球面。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述焦平面探測(cè)器包含窗口、冷闌和焦平面陣列，三部分從前之后依次放置；窗口基于紅外透過(guò)材料，焦平面陣列為雙波段焦平面陣列或?qū)挷ǘ谓蛊矫骊嚵小?/p>

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的雙模折反射式共探測(cè)器成像系統(tǒng)，其特征在于所述窗口的材料為鍺。