[發(fā)明專利]一種化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310275419.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-07-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103388137A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于志明;胡家秀;趙健;牛云松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所 |
| 主分類號(hào): | C23C18/36 | 分類號(hào): | C23C18/36 |
| 代理公司: | 沈陽(yáng)優(yōu)普達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 張志偉 |
| 地址: | 110016 遼*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化學(xué) ni 納米 疊層膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜,其特征在于:納米疊層鍍膜是在化學(xué)鍍工藝過(guò)程中通過(guò)間歇式周期性引入超聲波信號(hào)于化學(xué)鍍?nèi)芤褐校诮饘倩撞牧仙铣练eNi-P納米疊層鍍膜,獲得的Ni-P納米疊層鍍膜呈層狀重復(fù)堆積結(jié)構(gòu),納米疊層鍍膜的單層厚度在50-500納米范圍內(nèi),總厚度在4-50微米范圍內(nèi)根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行調(diào)整。
2.按照權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜,其特征在于:優(yōu)選地,納米疊層鍍膜的單層厚度在60-200納米范圍內(nèi),總厚度在8-40微米范圍內(nèi)。
3.一種權(quán)利要求1所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層鍍膜的制備方法,其特征在于,以金屬材料為基底,沉積Ni-P納米疊層鍍膜材料,具體步驟如下:
(1)去除基體金屬表面上的油污,在有機(jī)溶劑中超聲清洗5-10分鐘;
(2)酸蝕;
(3)室溫水洗;
(4)在化學(xué)鍍過(guò)程中間歇式周期性引入超聲波信號(hào),在基底材料上沉積Ni-P納米疊層鍍膜;
(5)水洗并吹干,得到Ni-P納米疊層鍍膜。
4.按照權(quán)利要求3所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,去除基體金屬表面上的油污是將工件浸入三氯乙烯有機(jī)溶液中進(jìn)行刷洗。
5.按照權(quán)利要求3所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中,在有機(jī)溶劑中超聲清洗是把工件放入三氯乙烯有機(jī)溶液中通過(guò)超聲波清洗機(jī)清洗5-10分鐘,使得工件獲得潔凈表面。
6.按照權(quán)利要求3所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中,酸蝕是指對(duì)于不同的基體材料選擇相應(yīng)的酸溶液將基體表面上的氧化薄膜清除掉。
7.按照權(quán)利要求3所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(4)中,在化學(xué)鍍過(guò)程中間歇式周期性導(dǎo)入超聲波信號(hào)是指:首先,在超聲波的電流為100-200mA、超聲波頻率為16.5-55.5kHz下鍍膜25-295秒;然后,將超聲波發(fā)生器的電流在5秒內(nèi)由100-200mA逐漸降低到0;接著,在不加超聲波的狀態(tài)下鍍膜25-295秒;再將超聲波發(fā)生器的電流在5秒內(nèi)由0逐漸升高到100-200mA;不斷重復(fù)上述操作,沉積時(shí)間為40-500分鐘,得到需要的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜。
8.按照權(quán)利要求7所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于:優(yōu)選地,所述步驟(4)中,在化學(xué)鍍過(guò)程中間歇式周期性導(dǎo)入超聲波信號(hào)是指:在超聲波的電流為140-190mA、超聲波頻率為28.5-41.5kHz下鍍膜31-115秒;然后,將超聲波發(fā)生器的電流在5秒內(nèi)由140-190mA逐漸降低到0;接著,在不加超聲波的狀態(tài)下鍍膜31-115秒;再將超聲波發(fā)生器的電流在5秒內(nèi)由0逐漸升高到140-190mA;不斷重復(fù)上述操作,沉積時(shí)間為80-400分鐘,得到需要的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜。
9.按照權(quán)利要求3所述的化學(xué)鍍Ni-P納米疊層膜的制備方法,其特征在于,所述步驟(4)中,化學(xué)鍍?nèi)芤旱某煞秩缦拢?/p>
硫酸鎳20-30g/L;次磷酸鈉20-24g/L;乳酸25-34g/L;乙酸鈉14-16g/L;蒸餾水余量。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院金屬研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院金屬研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310275419.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:功率十瓦警笛
- 下一篇:布藝花風(fēng)鈴
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過(guò)液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無(wú)電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無(wú)電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 基礎(chǔ)化學(xué)數(shù)字化學(xué)習(xí)中心
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 化學(xué)清洗方法以及化學(xué)清洗裝置
- 化學(xué)強(qiáng)化組合物、化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)天平(無(wú)機(jī)化學(xué))
- 電化學(xué)裝置的化學(xué)配方
- 化學(xué)強(qiáng)化方法、化學(xué)強(qiáng)化裝置和化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)打尖方法和化學(xué)組合物





