[發(fā)明專利]導(dǎo)電多孔材料組件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310271981.9 | 申請日: | 2013-07-01 | 
| 公開(公告)號: | CN103963365B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 拉里·登·小克里西;蔡昌利;歐保全;大衛(wèi)·B·伍德 | 申請(專利權(quán))人: | 萊爾德技術(shù)股份有限公司 | 
| 主分類號: | B32B7/12 | 分類號: | B32B7/12;H05K9/00 | 
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127 | 代理人: | 呂俊剛,劉久亮 | 
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 暫無信息 | 
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 多孔 材料 組件 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及導(dǎo)電多孔材料組件及其制造或者生產(chǎn)方法。
背景技術(shù)
這個部分提供與本公開有關(guān)的背景信息,但是不一定是現(xiàn)有技術(shù)。
電子裝置的運(yùn)行中的普遍問題是在設(shè)備的電子電路內(nèi)部產(chǎn)生電磁輻射。這種輻射導(dǎo)致“電磁干擾”或者“EMI”,其能夠干擾某一附近程度內(nèi)的其它電子裝置的操作。
減輕EMI的影響的一般方案是開發(fā)能夠吸收和/或反射EMI能量的屏蔽材料。這些屏蔽材料被采用以將EMI局限在其源內(nèi),并且隔離EMI源附近的其它裝置。
另外,在電子裝置中使用的全部EMI屏蔽材料的目標(biāo)是必須不僅僅遵循FCC要求,而且EMI屏蔽材料還應(yīng)滿足針對阻燃的擔(dān)保人實(shí)驗(yàn)室(UL)標(biāo)準(zhǔn)。在此環(huán)境中,應(yīng)按照不在對于滿足EMI屏蔽要求所必需的屏蔽屬性上妥協(xié)的方式,使EMI屏蔽材料理想地阻燃。
發(fā)明內(nèi)容
這個部分提供本公開的總的小結(jié),而不是其完整范圍或者其全部特征的詳盡公開。
根據(jù)各個方面,示例性實(shí)施方式公開了導(dǎo)電多孔材料組件。還公開了制造或者生產(chǎn)導(dǎo)電多孔材料組件的示例性方法。在示例性實(shí)施方式中,導(dǎo)電多孔材料組件通常包括導(dǎo)電多孔材料和第一層導(dǎo)電多孔織物。第一層粘接劑是位于所述第一層導(dǎo)電多孔織物和所述導(dǎo)電多孔材料之間。
在其它示例性實(shí)施方式中,提供了制造導(dǎo)電多孔材料組件的方法。在示例性實(shí)施方式中,一種方法通常包括:將第一層導(dǎo)電多孔織物以粘接方式附接到導(dǎo)電多孔材料的第一面。
其它應(yīng)用領(lǐng)域?qū)囊韵绿峁┑拿枋鲎兊妹黠@。發(fā)明內(nèi)容中的說明和具體示例僅旨在例示而不意在限制本公開的范圍。
附圖說明
此處描述的附圖僅是為了例示所選擇的實(shí)施方式而不是全部可能的實(shí)現(xiàn)方式,并且不意在限制本公開的范圍。
圖1到圖5示出導(dǎo)電阻燃多孔材料組件以及制造導(dǎo)電阻燃多孔材料組件的示例處理的示例性實(shí)施方式。
圖6是針對根據(jù)示例性實(shí)施方式的導(dǎo)電阻燃多孔材料組件的測試樣本測量的屏蔽效果(分貝,dB)-頻率(赫茲,Hz)的曲線圖;以及
圖7到圖9是力位移阻抗曲線圖,示出針對根據(jù)示例性實(shí)施方式的導(dǎo)電阻燃多孔材料組件的各個測試樣品而測量的Z軸電阻(歐姆每平方英寸)和力(磅每平方英寸)-壓縮百分比。
具體實(shí)施方式
下面將參照附圖更詳細(xì)描述示例實(shí)施方式。
本發(fā)明的發(fā)明人認(rèn)識到對制造導(dǎo)電多孔材料組件的方法(在執(zhí)行該方法的位置不必使用銀(例如,不鍍銀))的需要并且已經(jīng)開發(fā)了該方法。通過比較,已有的方法包括在微孔的內(nèi)表面上或者泡沫的內(nèi)部空隙上鍍銀。但是本發(fā)明的發(fā)明人認(rèn)識到鍍銀不是在全部地區(qū)都允許,例如,在中國深圳的特定部分或者區(qū)域中。因此,本發(fā)明的發(fā)明人開發(fā)并且公開了導(dǎo)電多孔材料組件的示例性實(shí)施方式及其制造或者生產(chǎn)方法(在執(zhí)行該方法的位置不必使用銀(例如,不鍍銀))。在一些示例性實(shí)施方式中,導(dǎo)電多孔材料組件起到與上述導(dǎo)電鍍銀泡沫相同作用并且可以與其比較。
如此處所公開的,導(dǎo)電多孔材料組件的示例性實(shí)施方式可以是阻燃的(例如,UL-94V-0等),呈現(xiàn)適用于電磁屏蔽應(yīng)用的Z軸導(dǎo)電性、Z軸電阻或者體電阻,并且是無鹵素的(例如,最多不超過百萬分之900份的氯、最多不超過百萬分之900份的溴并且最多不超過百萬分之1500份的總鹵素等)。一些示例性實(shí)施方式在此還可以被稱為無鹵素、阻燃、導(dǎo)電EMI屏蔽材料。
在示例性實(shí)施方式中,生產(chǎn)或者制造導(dǎo)電多孔材料組件的方法包括使用粘接劑(例如,重量輕的熱熔化網(wǎng)式粘接劑等),將經(jīng)鍍敷的網(wǎng)格(例如,來自Laird Technologies,Inc.等的金屬化的織物)應(yīng)用到向經(jīng)鍍敷的泡沫(例如,鍍敷了金屬的聚亞安酯開口單元泡沫等)以保持Z軸接觸,接著將鍍敷的網(wǎng)格層合到導(dǎo)電泡沫。層合的合成體或者材料堆疊接著被涂覆阻燃劑(例如,無鹵素阻燃劑等),使得最終產(chǎn)品具有阻燃等級(例如,UL V-0等)。
在一個示例中,鍍敷的網(wǎng)格被沿著經(jīng)鍍敷的泡沫的上面和下面兩者以粘接方式附接到經(jīng)鍍敷的泡沫。該示例導(dǎo)電多孔材料組件或者最終產(chǎn)品具有通過五層材料從頂部到底部的Z軸導(dǎo)電性。五個層是頂層經(jīng)鍍敷的網(wǎng)格和底層經(jīng)鍍敷的網(wǎng)格、經(jīng)鍍敷的泡沫、和分別在經(jīng)鍍敷的泡沫與頂層經(jīng)鍍敷的網(wǎng)格和底層經(jīng)鍍敷的網(wǎng)格之間的上層粘接劑和下層粘接劑。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于萊爾德技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)萊爾德技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310271981.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:金屬基覆銅板及其制備方法
 - 下一篇:激光打印制備復(fù)合材料
 
- 同類專利
 
- 專利分類
 
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
 - 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
 - 導(dǎo)電糊劑及導(dǎo)電圖案
 - 導(dǎo)電圖案的形成方法、導(dǎo)電膜、導(dǎo)電圖案及透明導(dǎo)電膜
 - 導(dǎo)電片和導(dǎo)電圖案
 - 導(dǎo)電漿料和導(dǎo)電膜
 - 導(dǎo)電端子及導(dǎo)電端子的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)
 - 導(dǎo)電構(gòu)件及使用多個導(dǎo)電構(gòu)件的導(dǎo)電電路
 - 導(dǎo)電型材和導(dǎo)電裝置
 - 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
 





