[發(fā)明專利]選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310271227.5
• 申請日: 2013-07-01
• 公開（公告）號: CN103324039A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王紅波;從治剛;王世杰
• 申請（專利權(quán)）人: 淳華科技（昆山）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi)

1.一種選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，用于在軟性印刷線路板進(jìn)行圖形電鍍時(shí)的顯影制程中對其進(jìn)行清洗，其特征在于：所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)包括由前向后依次設(shè)置的盛放有顯影液的顯影槽、具有雙面噴淋裝置的放流水洗槽、盛放有中和液的中和槽、盛放有去離子水的前水洗槽、盛放有碳酸氫鈉清洗液的清洗槽和盛放有水的后水洗槽；

所述的前水洗槽由前向后依次包括若干個(gè)第一子水洗槽，所述的去離子水由最后的一個(gè)所述的第一子水洗槽供入所述的前水洗槽中，且位于較后位置的所述的第一子水洗槽通過溢流為其前方的所述的第一子水洗槽供水；

所述的后水洗槽由前向后依次包括由若干個(gè)第二子水洗槽構(gòu)成并供入市水的第一后水洗槽組、由若干個(gè)第三子水洗槽構(gòu)成并供入去離子水的第二子水洗槽組；所述的第一后水洗槽組中，所述的市水由最后的一個(gè)所述的第二子水洗槽供入所述的第一后水洗槽組中，且位于較后位置的所述的第二子水洗槽通過溢流為其前方的所述的第二子水洗槽供水；所述的第二后水洗槽組中，所述的去離子水由最后的一個(gè)所述的第三子水洗槽供入所述的第二后水洗槽組中，且位于較后位置的所述的第三子水洗槽通過溢流為其前方的所述的第三子水洗槽供水；

所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)還包括暫存筒槽，所述的前水洗槽、所述的第二后水洗槽組分別與所述的暫存筒槽相連接并分別向所述的暫存筒槽中供入去離子水，所述的暫存筒槽中還供入有碳酸氫鈉溶液，所述的碳酸氫鈉溶液和所述的去離子水在所述的暫存筒槽中配比為所述的中和液，所述的暫存筒槽與所述的中和槽相連接并向所述的中和槽中供入所述的中和液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的顯影槽由前向后依次包括顯影一號槽和顯影二號槽，所述的顯影一號槽中的所述的顯影液的溫度為30℃，所述的顯影二號槽中的所述的顯影液的溫度為27℃。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：最前的所述的第一子水洗槽、最前的所述的第三子水洗槽與所述的暫存筒槽相連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的前水洗槽中包含四個(gè)所述的第一子水洗槽；所述的第一后水洗槽組中包含兩個(gè)所述的第二子水洗槽；所述的第二后水洗槽組中包含兩個(gè)所述的第三子水洗槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：最前的所述的第二子水洗槽中、所述的暫存筒槽中、所述的放流水洗槽中分別連接有回收排放系統(tǒng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的清洗槽中的碳酸氫鈉清洗液的質(zhì)量濃度為2%。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的中和液的碳酸氫鈉的質(zhì)量濃度為0.05%。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的顯影液為碳酸鉀溶液。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的選鍍制品顯影制程清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述的放流水洗槽由所述的中和槽提供噴淋液。