[發(fā)明專利]真空成型裝置及其采用的真空容器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310270058.3
• 申請日: 2013-07-01
• 公開（公告）號: CN104275459A
• 公開（公告）日: 2015-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳堂權(quán);李先合;蔣益民
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: B22D17/20
• 分類號: B22D17/20;B22D45/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種成型裝置，尤其涉及一種真空成型裝置及其采用的真空容器。

背景技術(shù)

在鑄造鑄件的過程中，一些熔融金屬被氧化以影響鑄件的質(zhì)量。為了避免熔融金屬被氧化，通常在真空室中進行鑄造，例如，鑄造非晶合金。然而，在真空室中取出成型品時，真空室易被破真空。為了防止真空室被破真空，一般在真空室上安裝真空容器。真空容器包括殼體及密封件，殼體的底面上設(shè)有水平的密封面，密封件垂直安裝于殼體內(nèi)，且密封件的密封方向與殼體的底面垂直設(shè)置，以使密封件相對殼體運動與密封面緊密貼合，以密封真空室。然而，取出成型品時殘渣易掉落至密封面上，以使密封件和密封面無法緊密貼合，需反復去除密封面上的殘渣，導致操作繁瑣。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述情況，有必要提供一種操作簡單的真空容器及采用真空容器的真空成型裝置。

一種真空容器，用以連接真空成型裝置的真空室，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室的底面上傾斜設(shè)有密封面，該連接腔室連接該真空室，該出料腔室相對該連接腔室設(shè)置，該出料腔室內(nèi)設(shè)有用以與該真空室相連通的取料通道，該閥門腔室設(shè)置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設(shè)置，該密封件活動地收容于該閥門腔室內(nèi)，且該密封件的密封方向相對該連接腔室的底面傾斜設(shè)置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室的側(cè)壁滑動至該連接腔室的底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠?qū)⒃撨B接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。

一種真空成型裝置，其包括真空室、與該真空室相連的真空容器，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室的底面上傾斜設(shè)有密封面，該連接腔室與該真空室相連接，該出料腔室相對該連接腔室設(shè)置，該出料腔室內(nèi)設(shè)有與該真空室相連通的取料通道，該閥門腔室設(shè)置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設(shè)置，該密封件活動地收容于該閥門腔室內(nèi)，且該密封件的密封方向相對該連接腔室的底面傾斜設(shè)置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室的側(cè)壁滑動至該連接腔室的底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠?qū)⒃撨B接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。

本發(fā)明的真空容器上傾斜設(shè)有密封面，以使殘渣不易停留于密封面上，使得密封面與密封件的側(cè)壁緊密貼合不易漏氣，也無需去除密封面上的殘渣，從而操作方便。

附圖說明

圖1是本發(fā)明第一實施例的真空成型裝置的第一使用狀態(tài)示意圖，真空成型裝置的取料結(jié)構(gòu)穿設(shè)于真空容器并進入真空室以取出成型品。

圖2是圖1所示真空成型裝置的第二使用狀態(tài)示意圖，取料結(jié)構(gòu)移動至出料腔室內(nèi)，且真空容器密封真空室。

圖3是圖2所示真空成型裝置的第三使用狀態(tài)示意圖，取料結(jié)構(gòu)的密封蓋被打開，且成型品經(jīng)由密封蓋取出。

圖4是本發(fā)明第二實施例的真空成型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

主要元件符號說明