[發(fā)明專利]一種光學(xué)防偽元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310269077.4
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN104249597B
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李成垚;孫凱;王曉利;朱軍;曲欣
• 申請（專利權(quán)）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;B44F1/08;B44F1/02
• 代理公司: 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283
• 代理人: 陳瀟瀟,肖冰濱

1.一種光學(xué)防偽元件，該元件包括：

基層；以及

位于所述基層上的微結(jié)構(gòu)，所述微結(jié)構(gòu)的至少一部分是微浮雕結(jié)構(gòu)，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的深度滿足以下條件：

當(dāng)光束以一入射角照射所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分時，該光束通過該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分后，該光束中一波長或波長范圍的光在透射光方向或反射光方向上干涉相長，并且使得所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在透射光方向或反射光方向上呈現(xiàn)第一顏色，在散射光方向上呈現(xiàn)第二顏色。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的元件，其中，所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為以下中的至少一種或任意組合：

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元隨機或偽隨機分布；

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元在一個方向隨機或偽隨機分布；

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元在第一方向周期分布，在第二方向隨機或偽隨機分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的元件，其中，在所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的浮雕單元隨機或偽隨機分布的情況下，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的特征尺寸為0.3μm-6μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的元件，其中，在所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的浮雕單元在第二方向隨機或偽隨機分布的情況下，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分在該第二方向的特征尺寸為0.3μm-6μm，在第一方向的特征尺寸大于6μm，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的深度還滿足以下條件：

當(dāng)所述光束以一入射角照射所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分時，如果所述光束在與所述基層所在平面垂直并包含所述第二方向的第一平面內(nèi)，則所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在該第一平面內(nèi)散射光方向上呈現(xiàn)所述第二顏色。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的元件，其中，在所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的浮雕單元在第一方向周期分布，在第二方向隨機或偽隨機分布的情況下，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分在該第一方向的特征尺寸為0.3μm-6μm，在該第二方向的特征尺寸為0.3μm-6μm，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的深度還滿足以下條件：

當(dāng)所述光束以一入射角照射所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分時，如果所述光束在與所述基層所在平面垂直并包含所述第二方向的第一平面內(nèi)，則所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在該第一平面內(nèi)散射光方向上呈現(xiàn)所述第二顏色；如果所述光束在與所述基層所在平面垂直并包含所述第一方向的第二平面內(nèi)，則所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在該第二平面內(nèi)的衍射光方向上呈現(xiàn)隨角度變化+1級或-1級衍射光顏色。

6.一種光學(xué)防偽元件，該元件包括：

基層；以及

位于所述基層上的微結(jié)構(gòu)，所述微結(jié)構(gòu)的至少一部分是變折射率微結(jié)構(gòu)，該變折射率微結(jié)構(gòu)的厚度滿足以下條件：

當(dāng)光束以一入射角照射所述變折射率微結(jié)構(gòu)時，該光束通過該變折射率微結(jié)構(gòu)后，該光束中一波長或波長范圍的光在透射光方向上干涉相長，并且使得所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在透射光方向上呈現(xiàn)第一顏色，在散射光方向上呈現(xiàn)第二顏色。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一項權(quán)利要求所述的元件，其中，所述基層是透明的或半透明的。

8.一種光學(xué)防偽元件，該元件包括：

基層；以及

位于所述基層上的微結(jié)構(gòu)，所述微結(jié)構(gòu)的至少一部分包括微浮雕結(jié)構(gòu)和位于該微浮雕結(jié)構(gòu)與所述基層之間的反射層，該微浮雕結(jié)構(gòu)的深度滿足以下條件：

當(dāng)光束以一入射角照射所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分時，該光束通過該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分并通過所述反射層反射后，該光束中一波長或波長范圍的光在反射光方向上干涉相長，并且使得所述光學(xué)防偽元件的至少一部分在反射光方向上呈現(xiàn)第一顏色，在散射光方向上呈現(xiàn)第二顏色。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的元件，其中，所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為以下中的至少一種或任意組合：

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元隨機或偽隨機分布；

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元在一個方向隨機或偽隨機分布；

微浮雕結(jié)構(gòu)的浮雕單元在第一方向隨機或偽隨機分布，在第二方向周期分布。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的元件，其中，在所述微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的圖案為微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的浮雕單元隨機或偽隨機分布的情況下，該微浮雕結(jié)構(gòu)的至少一部分的特征尺寸為0.3μm-6μm。