[發(fā)明專利]抗蝕劑組合物的制造方法、過(guò)濾裝置、抗蝕劑組合物的涂敷裝置以及抗蝕劑組合物

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310268274.4
• 申請(qǐng)日: 2006-07-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103399467A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-11-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 室井雅昭;尾崎弘和
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/26
• 分類號(hào): G03F7/26;B01D61/14;B01D63/02;G03F7/039
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 雒運(yùn)樸

本申請(qǐng)是申請(qǐng)?zhí)枮?00680026038.x的申請(qǐng)的分案申請(qǐng)，原申請(qǐng)的申請(qǐng)日為2006年7月12日，優(yōu)先權(quán)日為2005年7月19日，發(fā)明創(chuàng)造名稱為：抗蝕劑組合物的制造方法、過(guò)濾裝置、抗蝕劑組合物的涂敷裝置以及抗蝕劑組合物。?

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種抗蝕劑組合物的制造方法、過(guò)濾裝置、抗蝕劑組合物的涂敷裝置以及抗蝕劑組合物。?

本申請(qǐng)對(duì)2005年7月19日在日本申請(qǐng)的特愿2005-208543號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，在此引用其內(nèi)容。?

背景技術(shù)

在光刻法技術(shù)中，例如在基板上形成由抗蝕劑材料構(gòu)成的抗蝕劑膜，相對(duì)該抗蝕劑膜，借助形成有預(yù)定圖案的光掩模，利用光、電子射線等放射線，進(jìn)行選擇性曝光，實(shí)施顯影處理，由此進(jìn)行在所述抗蝕劑膜上形成預(yù)定形狀的抗蝕劑圖案的工序。已曝光部分變成溶解于顯影液的特性的抗蝕劑材料被稱為正型，未曝光部分變成不溶解于顯影液的特性的抗蝕劑材料被稱為負(fù)型。通常，抗蝕劑材料溶解于有機(jī)溶劑后，作為抗蝕劑溶液用于形成抗蝕劑圖案。?

近年來(lái)，在半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件的制造中，光刻法技術(shù)的進(jìn)步使微細(xì)化快速地發(fā)展。作為微細(xì)化的方法，通常進(jìn)行曝光光的短波長(zhǎng)化。具體而言，以往使用g射線、i射線為代表的紫外線。而現(xiàn)在開(kāi)始導(dǎo)入KrF激元激光(248nm)，進(jìn)一步導(dǎo)入ArF激元激光(193nm)。另外，還對(duì)與它們的波長(zhǎng)相比更短的F₂激元激光(157nm)或EUV(極紫外線)、電子?射線、X射線等進(jìn)行了研究。?

另外，為了再現(xiàn)微細(xì)尺寸的圖案，需要具有高清晰度(high?rsolution)的抗蝕劑材料。作為這樣的抗蝕劑材料，使用含有基礎(chǔ)樹(shù)脂(ベ一ス樹(shù)脂)和因曝光而產(chǎn)生酸的酸產(chǎn)生劑的化學(xué)增幅型抗蝕劑組合物。?

目前，作為化學(xué)增幅型抗蝕劑組合物的基礎(chǔ)樹(shù)脂，例如在使用KrF激元激光(248nm)作為曝光光源的情況下，通常使用對(duì)KrF激元激光的透明性高的聚羥基苯乙烯(PHS)或用酸解離性溶解抑制基保護(hù)其羥基的PHS系樹(shù)脂。另外，作為曝光光源，使用ArF激元激光(198nm)作為曝光光源的情況下，通常使用主鏈具有對(duì)ArF激元激光的透明性高的(甲基)丙烯酸酯衍生而成的構(gòu)成單元(structural?unit)的樹(shù)脂(丙烯酸系樹(shù)脂)(例如參照專利文獻(xiàn)1)。?

但是，使用如上所述的抗蝕劑材料的情況下，容易在形成的抗蝕劑圖案表面發(fā)生缺陷(defect)。該缺陷是指例如利用KLAテンコ一ル公司的表面缺陷觀察裝置(商品名“KLA”)，從正上方觀察顯影后的抗蝕劑圖案時(shí)檢測(cè)到的全部不良情形。該不良情形是指例如顯影后的浮渣(scum)(主要是熔渣)、泡、塵土、色不均、抗蝕劑圖案間的跨越(bridg)等。缺陷最終出現(xiàn)在顯影后的抗蝕劑表面(抗蝕劑圖案表面)，與所謂的圖案形成前的抗蝕劑涂膜中的氣孔缺陷不同。?

這樣的缺陷在過(guò)去不是太大的問(wèn)題。但是，如果如近年這樣要求0.15微米以下的高清晰度的抗蝕劑圖案，則缺陷的改善成為重要的問(wèn)題。?

針對(duì)這樣的問(wèn)題，目前，主要以抗蝕劑組成(抗蝕劑組合物的基礎(chǔ)樹(shù)脂、酸產(chǎn)生劑、有機(jī)溶劑等)為中心，嘗試了對(duì)缺陷的改善(例如參照專利文獻(xiàn)2)。?

另一方面，作為缺陷的原因之一，可以舉出在溶液狀態(tài)的抗蝕劑組合物(抗蝕劑溶液)中存在微粒等固體狀的異物。這樣的異物，例如在以溶液狀態(tài)保管抗蝕劑組合物期間，在抗蝕劑溶液中存在經(jīng)時(shí)發(fā)生的趨勢(shì)，并且也成為抗蝕劑的保存穩(wěn)定性降低的原因。所以，為了改善異物，提出了各種方法。?

目前，針對(duì)異物的減低，與所述缺陷的情況相同，以抗蝕劑組成為中心，嘗試了對(duì)其改善(例如參照專利文獻(xiàn)3)。?

另外，在專利文獻(xiàn)4中還提出了，在設(shè)置有過(guò)濾器的封閉體系內(nèi)，通過(guò)使抗蝕劑組合物循環(huán)來(lái)減低抗蝕劑組合物中的微粒的量的抗蝕劑組合物的制造方法。?

另外，在專利文獻(xiàn)5中還提出了，通過(guò)使其通過(guò)具有正的ζ電位的過(guò)濾器來(lái)提高抗蝕劑組合物的保存穩(wěn)定性的抗蝕劑組合物的制造方法。?

專利文獻(xiàn)1：專利第2881969號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)2：特開(kāi)2001-56556號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)3：特開(kāi)2001-22072號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)4：特開(kāi)2002-62667號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)5：特開(kāi)2001-350266號(hào)公報(bào)?

發(fā)明內(nèi)容