[發(fā)明專利]一種側(cè)向耦合平面波導(dǎo)光柵外腔激光器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310268233.5
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN103346477A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫寧寧;譚滿清
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所
• 主分類號: H01S5/14
• 分類號: H01S5/14;H01S5/22
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種外腔激光器，包括一個平面光波導(dǎo)芯片，該芯片包括一個管芯和一個波導(dǎo)，其特征在于：所述波導(dǎo)具有一個芯層，該芯層呈脊形，在所述波導(dǎo)的芯層兩側(cè)具有一個側(cè)向耦合光柵。

2.如權(quán)利要求1所述的外腔激光器，其特征在于：所述管芯包括有源區(qū)、前腔面和后腔面，所述后腔面用于反射所述有源區(qū)激發(fā)的光波，所述前腔面用于傳輸該光波到所述波導(dǎo)中，所述波導(dǎo)的芯層耦合到該管芯的前腔面。

3.如權(quán)利要求2所述的外腔激光器，其特征在于：所述管芯還包括模斑尺寸變換結(jié)構(gòu)，該模斑尺寸變換結(jié)構(gòu)的寬度從有源區(qū)向前腔面逐漸變窄，形成梯形結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述側(cè)向耦合光柵是布拉格光柵。

5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述側(cè)向耦合光柵的光柵槽刻蝕深度與所述波導(dǎo)的芯層的刻蝕深度相同。

6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述波導(dǎo)的傳播方向相對于垂直于所述管芯的前腔面的方向的夾角為5°～10°。

7.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述側(cè)向耦合光柵位于波導(dǎo)上距離所述管芯的前腔面1mm～10mm處。

8.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述側(cè)向耦合光柵2.3的中心脊型波導(dǎo)寬度為2～8μm，側(cè)向刻蝕寬度為0.5～2μm，光柵反射率為10～60％。

9.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述外腔激光器還包括熱沉、散熱器和熱敏電阻，所述平面光波導(dǎo)芯片焊接在熱沉上，該熱沉焊接在散熱器上，該散熱器與熱敏電阻電性連接組成控溫系統(tǒng)。

10.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的外腔激光器，其特征在于：所述外腔激光器還包括光纖，該光纖芯層與所述波導(dǎo)的芯層對準(zhǔn)耦合，所述平面光波導(dǎo)芯片末端具有各向異性刻蝕的溝槽，用于容納光纖。