[發明專利]一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201310268140.2 | 申請日: | 2013-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN104249522A | 公開(公告)日: | 2014-12-31 |
| 發明(設計)人: | 賈小波;張學明;孔秀麗;李長春;肖恩琳;張強;許永森;蘇建華 | 申請(專利權)人: | 中國石油化工股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/06 | 分類號: | B32B27/06;B32B27/18;B32B27/30;B32B37/10;C08L27/06;C08K13/06;C08K9/12;C08K3/26;C08K3/34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 消霧無滴 聚氯乙烯 大棚 及其 制備 方法 | ||
1.一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述大棚膜為三層復合結構,中間層厚度為表層厚度的2~3倍;
所述表層由以下重量份組分組成,聚氯乙烯樹脂100份,穩定劑1.0~3.0份,增塑劑40~80份,加工助劑2~8份,潤滑劑0.2~1.0份,酚類抗氧劑0.5~1.5份,光穩定劑0.2~2.0份,復合防霧無滴助劑2.5~3.0份,酞菁藍0.01~0.3份;
所述中間層由以下重量份組分組成,聚氯乙烯樹脂100份,穩定劑1.0~3.0份,增塑劑40~80份,加工助劑2~8份,潤滑劑0.2~1.0份,酚類抗氧劑0.5~1.5份,光穩定劑0.2~2.0份,復合防霧無滴助劑3.75~7.5份,酞菁藍0.01~0.3份;中間層中復合防霧無滴助劑濃度為表層中復合防霧無滴助劑濃度的1.5~2.5倍;
所述的復合防霧無滴助劑由7.5~10重量份防霧劑,30~55重量份無滴劑,40~70重量份緩釋劑經過插層反應制得。
2.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的防霧劑為含氟脂肪酸甘油酯聚氧化乙烯醚、含氟脂肪酸甘露醇酯聚氧化乙烯醚、聚二甲基硅氧烷氧化乙烯醚等兩種或兩種以上任意比例復配物。
3.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的無滴劑為單硬脂酸甘油酯、單亞麻酸甘油酯、單油酸甘油酯、單月桂酸山梨醇酐酯、單棕櫚酸山梨醇酐酯、單硬脂酸山梨醇酐酯、單油酸山梨醇酐酯、聚氧化乙烯山梨醇酐單月桂酸酯、聚氧化乙烯山梨醇酐單棕櫚酸酯、聚氧化乙烯山梨醇酐單硬脂酸酯、聚氧化乙烯山梨醇酐單油酸酯、硬脂酸二聚甘油酯中四種或四種以上任意比例復配物。
4.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的緩釋劑為納米級水滑石、納米級硅藻土或納米級絹云母。
5.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的防霧劑為含氟脂肪酸甘油酯聚氧化乙烯醚與聚二甲基硅氧烷氧化乙烯醚按質量比0.3:9混合的復配物。
6.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的無滴劑為聚氧化乙烯山梨醇酐單油酸酯、聚氧化乙烯山梨醇酐單硬脂酸酯、單油酸山梨醇酐酯、單硬脂酸山梨醇酐酯、硬脂酸二聚甘油酯按質量比5:2.5:25:10:2.2混合的復配物。
7.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的增塑劑為鄰苯二甲酸二辛酯、癸二酸二辛酯、偏苯三酸三辛酯、檸檬酸三丁酯、亞磷酸三(壬基苯基)酯、環氧大豆油的兩種或兩種以上任意比例混合物。
8.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的加工助劑為甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯-丁二烯接枝共聚物或甲基丙烯酸丁酯-苯乙烯-丁二烯接枝共聚物。
9.根據權利要求1所述的一種消霧無滴聚氯乙烯大棚膜,其特征在于:所述的酚類抗氧劑為四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥苯基)丙酸]季戊醇酯。
10.一種權利要求1~9所述的消霧無滴聚氯乙烯大棚膜的制備方法,其特征在于,具體制備步驟為:?
10.1、復合防霧無滴助劑插層工藝:按重量份將納米級緩釋劑40~70份、復合防霧劑7.5~10份、復合無滴劑30~55份加入無水乙醇溶劑中,納米級緩釋劑與無水乙醇質量比例為1:8~10,在45~50℃的反應溫度下,強攪拌反應2~3小時,過濾后在真空干燥箱中干燥,研磨制得復合防霧無滴助劑;
10.2、物料配混工藝:分別按照重量份聚氯乙烯樹脂100份,穩定劑1.0~3.0份,增塑劑30~100份,加工助劑2~8份,潤滑劑0.2~1.0份,酚類抗氧劑0.2~2.0份,光穩定劑0.2~2.0份,復合防霧無滴助劑中間層3.75~7.5份、表層2.5~3.0份,酞菁藍0.01~0.3份在高低速混合機組混合,至混合溫度100~130℃時,將物料放到低速混合機,待物料溫度冷卻至38~42℃時出料;
10.3、壓延工藝:采用三層共擠復合壓延工藝,其中中間層復合防霧無滴助劑濃度為表層1.5~2.5倍,中間層厚度為表層厚度2~3倍,壓延溫度為160℃~200℃。
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