[發明專利]一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法無效
| 申請號： | 201310267016.4 | 申請日： | 2013-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN103351030A | 公開（公告）日： | 2013-10-16 |
| 發明（設計）人： | 吉鴻安;朱來東;高維榮;趙忠孝;許穎生;潘杰 | 申請（專利權）人： | 西北礦冶研究院 |
| 主分類號： | C01G51/06 | 分類號： | C01G51/06 |
| 代理公司： | 甘肅省知識產權事務中心 62100 | 代理人： | 趙立權 |
| 地址： | 730900 甘*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 陰離子 殘留 碳酸 制取 方法 | ||
【權利要求書】：
1.?一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法，其特征在于，包括如下工藝步驟：
（1）分別配制濃度為2.0-3.5?mol/L的碳酸氫銨溶液和濃度為1.0-2.0mol/L的鈷鹽溶液；
（2）以碳酸氫銨溶液為反應底液，在攪拌條件下，將鈷鹽溶液與碳酸氫銨溶液按1：0-1.5的體積比勻速噴淋至碳酸氫銨底液中，控制使反應溫度保持在55-65℃，溶液反應終點pH值為7.0-7.5；
（3）將反應后溶液過濾，并將過濾所得固體物料用去離子水洗滌3-5次，即得目標產品。
2.根據權利要求1所述的一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法，其特征在于，步驟（1）中，所述鈷鹽為氯化鈷、硝酸鈷、硫酸鈷中的一種或多種的組合。
3.?根據權利要求1所述的一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法，其特征在于，步驟（1）中，采用去離子水配制碳酸氫銨溶液和鈷鹽溶液。
4.?根據權利要求1所述的一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法，其特征在于，步驟（2）中，所述碳酸氫銨底液的體積為鈷鹽溶液加入體積的0.5-1.6倍。
5.?根據權利要求1所述的一種低陰離子殘留堿式碳酸鈷的制取方法，其特征在于，步驟（2）中，將鈷鹽溶液與碳酸氫銨溶液以300-1000L/h的流速勻速噴淋至碳酸氫銨底液中。
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