[發(fā)明專利]金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極及其制備方法和光電解水制氫應(yīng)用無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310264438.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103354283A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鞏金龍;蘇鳳莉;王拓;呂睿;張鵬;盧健偉;馬新賓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01M4/04 | 分類號(hào): | H01M4/04;B82B3/00;H01G9/04;H01G9/20;H01G9/042 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 琪琛 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 粒子 修飾 樹(shù)枝 氧化 陣列 電極 及其 制備 方法 電解水 應(yīng)用 | ||
1.一種金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極,包括襯底上的樹(shù)枝狀TiO2納米棒陣列,其特征在于,
所述襯底為FTO導(dǎo)電玻璃;
所述組成樹(shù)枝狀TiO2納米棒陣列的所述TiO2納米棒包括主干納米棒,所述主干納米棒表面密布有樹(shù)枝狀結(jié)構(gòu),所述樹(shù)枝狀結(jié)構(gòu)表面均勻負(fù)載有金納米粒子;
所述主干納米棒的直徑為100-300nm,長(zhǎng)度為1.5-3μm;
所述樹(shù)枝狀結(jié)構(gòu)的直徑為10-20nm,長(zhǎng)度為50-100nm;
所述金納米粒子的直徑為5-20nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極,其特征在于,
所述主干納米棒的直徑為150-200nm,長(zhǎng)度為2-2.4μm;
所述分枝狀結(jié)構(gòu)的直徑為10-20nm,長(zhǎng)度為50-80nm;
所述金納米粒子的直徑為5-10nm。
3.一種如權(quán)利要求1所述金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極的制備方法,其特征在于,該方法按照以下步驟進(jìn)行:
配制鈦源前驅(qū)體溶液;以FTO導(dǎo)電玻璃為基底,加入所述鈦源前驅(qū)體溶液,通過(guò)水熱合成法制備TiO2納米棒陣列;洗滌,干燥;
配制濃度為0.1M-0.3M的TiCl4水溶液;以所述TiO2納米棒陣列為模板,通過(guò)化學(xué)水浴沉積法制得樹(shù)枝狀TiO2納米棒陣列;煅燒;
配制濃度為0.3mM-2.0mM的HAuCl4水溶液,以所述樹(shù)枝狀TiO2納米棒陣列為基底,通過(guò)紫外光還原3-9小時(shí)制得金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列;洗滌,干燥;
其中,紫外光還原時(shí)的紫外光強(qiáng)度為80-200mW/cm2。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的鈦源前驅(qū)體溶液采用體積比為1:30:30的鈦酸丁酯、濃鹽酸、去離子水;首先所述將濃鹽酸與所述去離子水混合,攪拌5分鐘之后加入所述鈦酸丁酯并繼續(xù)攪拌5分鐘,得所述鈦源前驅(qū)體溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述水熱合成法的溫度為150℃-180℃,時(shí)間為5-20小時(shí)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極的制備方法,其特征在于,步驟(2)所述TiO2納米棒陣列和所述樹(shù)枝狀TiO2納米棒陣列均為金紅石型。
7.一種將如權(quán)利要求1所述金納米粒子修飾樹(shù)枝狀二氧化鈦納米棒陣列電極作為光電水解制氫的應(yīng)用。
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