[發明專利]膠粘薄膜、半導體裝置的制造方法以及半導體裝置有效
| 申請號: | 201310263748.6 | 申請日: | 2013-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN103515276B | 公開(公告)日: | 2017-10-03 |
| 發明(設計)人: | 宍戶雄一郎;三隅貞仁;大西謙司 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/58;C09J7/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司11219 | 代理人: | 王海川,穆德駿 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 膠粘 薄膜 半導體 裝置 制造 方法 以及 | ||
1.一種膠粘薄膜,用于將固定在被粘物上的第一半導體元件包埋并且將與該第一半導體元件不同的第二半導體元件固定到被粘物上,其中,
所述膠粘薄膜含有環氧樹脂和酚醛樹脂,
所述膠粘薄膜具有比所述第一半導體元件的厚度T1更厚的厚度T,
所述被粘物與所述第一半導體元件被絲焊連接、并且所述厚度T與所述厚度T1之差為40μm以上且260μm以下,或者
所述被粘物與所述第一半導體元件被倒裝連接、并且所述厚度T與所述厚度T1之差為10μm以上且200μm以下。
2.如權利要求1所述的膠粘薄膜,其中,
所述被粘物與所述第一半導體元件被絲焊連接、并且所述厚度T為80μm以上且300μm以下。
3.如權利要求1所述的膠粘薄膜,其中,
所述被粘物與所述第一半導體元件被倒裝連接、并且所述厚度T為50μm以上且250μm以下。
4.如權利要求1所述的膠粘薄膜,其中,
120℃下的熔融粘度為100Pa·s以上且2000Pa·s以下。
5.一種半導體裝置的制造方法,包括如下工序:
將至少一個第一半導體元件固定到被粘物上的第一固定工序,和
利用權利要求1~4中任一項所述的膠粘薄膜將所述第一半導體元件包埋的同時將與所述第一半導體元件不同的第二半導體元件固定到所述被粘物上的第二固定工序。
6.如權利要求5所述的半導體裝置的制造方法,其中,
在所述第一固定工序中,利用第一半導體元件固定用的第一膠粘薄膜將所述第一半導體元件固定到所述被粘物上。
7.如權利要求6所述的半導體裝置的制造方法,其中,
還包括利用焊線將所述第一半導體元件與所述被粘物電連接的絲焊工序。
8.如權利要求5所述的半導體裝置的制造方法,其中,
在所述第一固定工序中,通過倒裝連接將所述第一半導體元件固定到所述被粘物上。
9.如權利要求5所述的半導體裝置的制造方法,其中,
還包括在所述第二半導體元件上固定與該第二半導體元件同種或不同種的第三半導體元件的第三固定工序。
10.通過權利要求5所述的半導體裝置的制造方法得到的半導體裝置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日東電工株式會社,未經日東電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310263748.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





