[發(fā)明專利]成膜裝置及成膜裝置用傳送托盤無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310263451.X | 申請日: | 2013-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN103526156A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 飯尾逸史 | 申請(專利權(quán))人: | 住友重機械工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 溫旭;郝傳鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 傳送 托盤 | ||
1.一種成膜裝置,其對基板進行成膜處理,其中,所述成膜裝置具備:
真空容器,其能夠容納所述基板;及
傳送機構(gòu),其在所述真空容器內(nèi)將保持所述基板的傳送托盤在與所述基板的板厚方向交叉的傳送方向上進行傳送,且所述傳送托盤以使所述基板的板厚方向成為水平方向或成為從水平方向傾斜的方向的方式,以使所述基板直立的狀態(tài)、或以使所述基板從直立的狀態(tài)傾斜的狀態(tài)來保持所述基板,
所述傳送機構(gòu)具有:
多個傳送輥,其配置于所述基板的下端側(cè),繞沿著所述板厚方向延伸的第1軸線旋轉(zhuǎn),并對所述傳送托盤進行傳送;及
多個從動輥,其配置于所述基板的上端側(cè),繞沿著與所述板厚方向及所述傳送方向交叉的方向延伸的第2軸線旋轉(zhuǎn),
所述傳送托盤的上端面形成有沿著所述傳送方向連續(xù)的槽部,
所述從動輥與所述槽部內(nèi)的壁面抵接且伴隨所述傳送托盤的移動而旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其中,
所述傳送托盤的下端面設置有向所述傳送方向延伸且能夠與所述傳送輥的周面抵接的軌道部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置,其中,
所述多個從動輥具備:第1從動輥,其與所述槽部內(nèi)的1對壁面中的一個壁面抵接;及
第2從動輥,其與所述槽部內(nèi)的1對壁面中的另一個壁面抵接;
所述第1從動輥及所述第2從動輥在所述傳送方向上交替配置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置,其中,
在所述板厚方向上,所述第1從動輥的周面中最靠所述1對壁面中的一個壁面?zhèn)鹊奈恢门c所述第2從動輥的周面中最靠所述1對壁面中的另一個壁面?zhèn)鹊奈恢玫木嚯x比所述槽部的1對壁面間的距離小。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項所述的成膜裝置,其中,
所述傳送輥具有1對凸緣部,所述1對凸緣部配置成向該傳送輥的徑向外側(cè)突出,并且在所述第1軸線方向上對置且夾持所述傳送托盤的兩側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項所述的成膜裝置,其中,
所述成膜裝置具備閘閥部,所述閘閥部具備能夠密封所述真空容器的所述傳送托盤所通過的開口部的閥體,
所述閘閥部上設置有所述從動輥。
7.一種成膜裝置用傳送托盤,其以按基板的板厚方向成為水平方向或成為從水平方向傾斜的方向的方式將所述基板以直立的狀態(tài)、或以從直立的狀態(tài)傾斜的狀態(tài)在與所述板厚方向交叉的傳送方向上傳送時,能夠保持所述基板,其中,所述成膜裝置用傳送托盤具備:
上端部保持部,其保持所述基板的上端部;
下端部保持部,其保持所述基板的下端部;及
連結(jié)部,其連結(jié)所述上端部保持部及下端部保持部,
所述上端部保持部的上端面形成有在傳送方向上連續(xù)的槽部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置用傳送托盤,其中,
所述槽部在所述傳送方向上的端部形成有傾斜部,所述傾斜部以該槽部的寬度朝向所述端部擴展的方式形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的成膜裝置用傳送托盤,其中,
所述下端部保持部的下端面設置有向所述傳送方向延伸的軌道部。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





