[發明專利]一種長度可控的聚合物納米柱陣列的制備方法有效
| 申請號: | 201310263006.3 | 申請日: | 2013-06-27 |
| 公開(公告)號: | CN103360614A | 公開(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發明(設計)人: | 葉雄英;王敏;馮金揚 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | C08J5/00 | 分類號: | C08J5/00;B82Y40/00;C08L25/06;C08L69/00;C08L33/12;C08L23/12;C08L79/08;C08L63/00;C08L67/02;C08L61/16;C08L81/06 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 長度 可控 聚合物 納米 陣列 制備 方法 | ||
1.一種長度可控的聚合物納米柱陣列的制備方法,其特征在于:首先用PDMS預聚物浸潤AAO模板,待其填滿AAO模板的納米孔洞后,用叔丁醇TBA溶解孔中預設量的PDMS預聚物,然后加熱AAO模板,待PDMS預聚物固化后,就得到了孔深減小的AAO模板;然后用聚合物流體浸潤PDMS填充的AAO模板,待聚合物固化后脫模,就得到聚合物納米柱陣列。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:具體包括如下步驟:
步驟1:首先將AAO模板,先后在去離子水、乙醇和丙酮中超聲清洗5分鐘,然后100℃烘干,隨后制備一定孔深的AAO模板,在AAO模板表面旋涂一層2-20um厚的PDMS預聚物,隨后將其放入真空中保持10-100min,使PDMS預聚物充分浸潤AAO模板;隨后去掉負壓,將孔中填滿PDMS預聚物的AAO模板浸入叔丁醇TBA中1min-5min,同時保持叔丁醇TBA的溫度恒定在30-50℃,使叔丁醇TBA溶解AAO模板表面的PDMS預聚物和AAO模板納米孔洞中部分PDMS預聚物;接著,將AAO模板從叔丁醇TBA中拿出,旋轉離心甩掉表面殘留的溶液;最后將AAO模板放在加熱板上,保持70-150℃,加熱0.5-3h,使AAO模板孔洞中的PDMS預聚物完全固化,就得到了孔深減小了的AAO模板;
步驟2:將PDMS填充的預設孔深的AAO模板與聚合物流體充分接觸,待聚合物固化后,將聚合物從AAO模板揭下,即得到預設長度聚合物納米柱陣列。
3.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于:步驟2所述聚合物流體為聚合物熔體或聚合物溶液。
4.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于:所述聚合物為聚苯乙烯PS、聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、聚丙烯PP、聚酰亞胺PI、環氧樹脂EP、聚對苯二甲酸乙二醇醋PET、聚萘二甲酸乙二醇酯PEN、聚醚醚酮PEEK或聚醚石風PES。
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