[發(fā)明專利]一種金屬表面電鍍鈦的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310261910.0
• 申請日: 2013-06-27
• 公開（公告）號: CN103320822A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設計）人: 楊建紅;孫鳳娟;秦慶東;王芳平
• 申請（專利權(quán)）人: 中國鋁業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C25D3/66
• 分類號: C25D3/66
• 代理公司: 中國有色金屬工業(yè)專利中心 11028
• 代理人: 李迎春;李子健

1.一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其鍍鈦過程是以TiO_xC_y作為陽極，以待電鍍的金屬作為陰極，以熔鹽作為電解質(zhì)，進行電鍍的。

2.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其電鍍過程的電流為直流電流、方波電流、三角波電流、脈沖電流中的一種或幾種組合。

3.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其電鍍過程采用電鍍槽的為惰性環(huán)境，電鍍槽是密封并設有進出氣孔，由進出氣孔通過流動的惰性氣體。

4.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其熔鹽為氯化鈉、氯化鉀、氟化鈉和氟化鉀中的一種或者幾種的組合。

5.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其熔鹽電解質(zhì)中加入質(zhì)量分數(shù)為1%-30%的氟鈦酸鉀作為添加劑。

6.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其熔鹽電解質(zhì)中加入質(zhì)量分數(shù)為1%-30%?Ti³⁺、Ti²⁺離子作為添加劑。

7.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其待鍍金屬的熔點高于600℃，其結(jié)構(gòu)為實心金屬或中空的泡沫狀金屬。

8.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其中空的泡沫狀金屬的泡沫孔徑為0.1mm-10mm，5~120ppi，孔隙率：50%~98%，通孔率：≧98%，體積密度：＞0.1g/cm²。

9.根據(jù)權(quán)限利要求1所述的一種金屬表面電鍍鈦的方法，其特征在于其TiO_xC_y中的0<X<2，0<Y≤1。