[發明專利]埃洛石基光催化復合材料及其制備方法無效
| 申請號: | 201310261587.7 | 申請日: | 2013-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN103301827A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 趙曉兵;胡宗林;李霞章;陸曉旺;姚超;陳志剛 | 申請(專利權)人: | 常州大學 |
| 主分類號: | B01J23/10 | 分類號: | B01J23/10;B01J27/08;B01J27/04;B01J23/06 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 盧亞麗 |
| 地址: | 213164 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 埃洛石基 光催化 復合材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種埃洛石基光催化復合材料,其特征在于:它由埃洛石納米管和負載于埃洛石納米管內外表面的光催化半導體物質構成,所述光催化半導體物質和埃洛石納米管的質量比為10%~80%。
2.根據權利要求1復合材料,其特征在于,所述的埃洛石納米管管長200~800?nm,外徑10~80?nm,內徑5~20?nm。
3.根據權利要求1復合材料,其特征在于,所述的光催化半導體物質為TiO2、SnO2、ZnO、CdS、ZnS、CdSe、CeO2、AgBr中的任一種或兩種及兩種以上。
4.權利要求1所述埃洛石基光催化復合材料的制備方法,其特征在于,它包括以下步驟:將埃洛石超聲分散于去離子水中,放入微波反應器中,達到所需的反應溫度后,依次加入半導體前驅體,待反應完畢,過濾、洗滌、烘干、煅燒得到相應的埃洛石基光催化復合材料。
5.根據權利要求1方法,其特征在于,所述半導體物質的前驅體為TiCl4、SnCl4、Zn(NO3)2·6H2O、H2C2O4·2H2O?、Na2S·9H2O、CdCl2·2.5H2O、NaHSe、Ce(NO3)3·6H2O、C6H12N4、AgNO3、KBr的一種或兩種反應而成。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,埃洛石的質量濃度為5-20g/L。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,微波反應功率為100-400W,反應溫度70-120℃,反應時間20-40?min。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,過濾為減壓抽濾,洗滌用去離子水和酒精分別洗滌一次,并用真空干燥箱烘干。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,煅燒溫度為100-400℃,煅燒時間1-3?h。
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