[發(fā)明專利]太陽光模擬器及光譜調(diào)整方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310256549.2
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN104251465A
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 歐逸青;鄭閔聰;劉智維;趙文平
• 申請（專利權(quán)）人: 樂利士實業(yè)股份有限公司
• 主分類號: F21V14/08
• 分類號: F21V14/08;H02S50/15
• 代理公司: 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種太陽光模擬器，其特征在于，所述太陽光模擬器包括：

光源，用以產(chǎn)生第一光線；

光均勻化組件，設(shè)置于所述第一光線的行進(jìn)路線上，用以將所述第一光線均勻化；以及

N個濾光片，設(shè)置于所述第一光線的所述行進(jìn)路線上，所述N個濾光片中的M個濾光片位于所述光源與所述光均勻化組件之間，N是大于1的正整數(shù)，M是小于或等于N的正整數(shù)；

其中，所述第一光線通過每一所述M個濾光片的至少部分面積與所述光均勻化組件而產(chǎn)生第二光線，允許所述第一光線通過的每一所述M個濾光片的至少部分面積可被改變，以調(diào)整所述第二光線的光譜與太陽光的光譜的比例。

2.如權(quán)利要求1所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述M個濾光片可相對所述光均勻化組件沿垂直所述第一光線的所述行進(jìn)路線的方向移動，以改變允許所述第一光線通過的每一所述M個濾光片的至少部分面積。

3.如權(quán)利要求1所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述M個濾光片并排。

4.如權(quán)利要求1所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述M個濾光片上下錯開。

5.如權(quán)利要求1所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述M個濾光片可移動地設(shè)置于所述光均勻化組件的第一側(cè)，其它N-M個濾光片設(shè)置于所述光均勻化組件的第二側(cè)，所述第一側(cè)與所述第二側(cè)相對。

6.如權(quán)利要求1所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述光均勻化組件包括積分柱。

7.如權(quán)利要求6所述的太陽光模擬器，其特征在于，所述光均勻化組件還包括擴(kuò)散片，設(shè)置于所述M個濾光片與所述積分柱之間。

8.一種光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述光譜調(diào)整方法包括：

以光源產(chǎn)生第一光線，其中光均勻化組件以及N個濾光片設(shè)置于所述第一光線的行進(jìn)路線上，所述N個濾光片中的M個濾光片位于所述光源與所述光均勻化組件之間，N是大于1的正整數(shù)，M是小于或等于N的正整數(shù)；

所述第一光線通過每一所述M個濾光片的至少部分面積與所述光均勻化組件而產(chǎn)生第二光線；以及

改變允許所述第一光線通過的每一所述M個濾光片的至少部分面積，以調(diào)整所述第二光線的光譜與太陽光的光譜的比例。

9.如權(quán)利要求8所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述光譜調(diào)整方法還包括：

相對所述光均勻化組件沿垂直所述第一光線的所述行進(jìn)路線的方向移動所述M個濾光片，以改變允許所述第一光線通過的每一所述M個濾光片的至少部分面積。

10.如權(quán)利要求8所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述M個濾光片并排。

11.如權(quán)利要求8所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述M個濾光片上下錯開。

12.如權(quán)利要求8所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述M個濾光片可移動地設(shè)置于所述光均勻化組件的第一側(cè)，其它N-M個濾光片設(shè)置于所述光均勻化組件的第二側(cè)，所述第一側(cè)與所述第二側(cè)相對。

13.如權(quán)利要求8所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述光均勻化組件包括積分柱。

14.如權(quán)利要求13所述的光譜調(diào)整方法，其特征在于，所述光均勻化組件還包括擴(kuò)散片，設(shè)置于所述M個濾光片與所述積分柱之間。