[發(fā)明專利]酸性氣體吸收劑、酸性氣體去除方法以及酸性氣體去除裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310254738.6
• 申請(qǐng)日: 2013-06-25
• 公開（公告）號(hào): CN103505994A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 村井伸次;前澤幸繁;加藤康博;村松武彥;程塚正敏;齊藤聰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): B01D53/78
• 分類號(hào): B01D53/78;B01D53/62
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 于輝

1.酸性氣體吸收劑，其包含至少一種由下列通式(1)表示的二胺化合物，

R¹R²N-(CHR³)_n-CH₂-NR⁴R⁵...(1)

其中R¹、R²、R⁴和R⁵表示碳數(shù)從3至6的環(huán)烷基、碳數(shù)從1至4的烷基、羥烷基、和氫原子之中的任一個(gè)；

R³表示氫原子、甲基和乙基之中的任一個(gè)；

“n”表示1或2的整數(shù)；

R¹、R²、R⁴和R⁵之中的一個(gè)或兩個(gè)是碳數(shù)從3至6的環(huán)烷基；

R¹、R²、R⁴和R⁵之中的一個(gè)或兩個(gè)是羥烷基；

兩個(gè)氨基之中的至少一個(gè)是仲氨基；

兩個(gè)氨基均是除了伯氨基之外的基團(tuán)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑，其中在通式(1)所示的二胺化合物中R⁴是2-羥乙基。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑，其中在通式(1)中R¹是環(huán)戊基，且在通式(1)中R²是氫原子。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑，其中由通式(1)表示的二胺化合物的含量是10質(zhì)量%至55質(zhì)量%。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑，其進(jìn)一步包含由烷醇胺類及/或由下述通式(2)所表示的雜環(huán)胺化合物組成的反應(yīng)促進(jìn)劑，

其中該反應(yīng)促進(jìn)劑的含量是1質(zhì)量%至20%質(zhì)量%，

其中在式（2）中，R⁶表示氫原子或者碳數(shù)為1～4的烷基，R⁷表示碳數(shù)為1～4且與碳原子結(jié)合的烷基；“r”表示1～3的整數(shù)，“q”表示1～4的整數(shù)，且“p”表示0～12的整數(shù)；在“r”為2～3時(shí)，氮原子彼此不直接結(jié)合。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的酸性氣體吸收劑，其中所述烷醇胺類為選自2-（異丙基氨基）乙醇、2-（乙基氨基）乙醇及2-氨基-2-甲基-1-丙醇之中的至少一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求5的酸性氣體吸收劑，其中所述雜環(huán)胺化合物包含選自哌嗪類之中的至少一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的酸性氣體吸收劑，其中所述哌嗪類為選自哌嗪、2-甲基哌嗪、2,5-二甲基哌嗪、和2,6-二甲基哌嗪中的至少一種。

9.酸性氣體去除方法，其包括：使含有酸性氣體的氣體與根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑接觸，以從含有酸性氣體的氣體中去除酸性氣體。

10.酸性氣體去除方法，其包括：使含有酸性氣體的氣體與根據(jù)權(quán)利要求5的酸性氣體吸收劑接觸，以從含有酸性氣體的氣體中去除酸性氣體。

11.從含有酸性氣體的氣體中去除酸性氣體的酸性氣體去除裝置，該裝置包括：

吸收塔，其含有根據(jù)權(quán)利要求1的酸性氣體吸收劑且使含有酸性氣體的氣體與該酸性氣體吸收劑接觸以從該氣體中除去酸性氣體；和

再生塔，其被配置成含有已經(jīng)在吸收塔內(nèi)吸收了酸性氣體的酸性氣體吸收劑以便從該酸性氣體吸收劑中去除該酸性氣體來使該酸性氣體吸收劑再生，從而使其在吸收塔內(nèi)再使用。

12.從含有酸性氣體的氣體中去除酸性氣體的酸性氣體去除裝置，該裝置包括：

吸收塔，其含有根據(jù)權(quán)利要求5的酸性氣體吸收劑且使含有酸性氣體的氣體與該酸性氣體吸收劑接觸以從該氣體中除去酸性氣體；和

再生塔，其被配置成含有已經(jīng)在吸收塔內(nèi)吸收了酸性氣體的酸性氣體吸收劑以便從該酸性氣體吸收劑中去除該酸性氣體來使該酸性氣體吸收劑再生，從而使其在吸收塔內(nèi)再使用。