[發(fā)明專利]一種銦鐿銩三摻雜鈮酸鋰晶體及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310252932.0
• 申請日: 2013-06-24
• 公開（公告）號: CN103320861A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設計）人: 代麗;焦珊珊;錢釗;李大勇;林家齊;王喜明
• 申請（專利權）人: 哈爾濱理工大學
• 主分類號: C30B29/30
• 分類號: C30B29/30;C30B15/04;C30B33/04
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 牟永林

技術領域

本發(fā)明涉及一種摻雜鈮酸鋰晶體及其制備方法。

背景技術

近些年，研究者們一直期待可以很好地將非線性和激光性能復合，獲得復合功能的晶體材料。盡管這一要求乍看并不難達到，但因為激光晶體和非線性晶體分別有實現其自身功能的不同要求，往往具有良好激光性能的晶體并不具有非線性，而優(yōu)良的非線性光學晶體并不能為激活離子提供可產生激光運轉的格位。鈮酸鋰晶體是一種性能優(yōu)良的非線性光學晶體材料，具有很大的非線性系數。Tm³⁺有易于發(fā)生上轉換的能級結構，常用作激光晶體的激活離子。摻銩鈮酸鋰晶體將鈮酸鋰晶體的非線性和Tm³⁺的上轉換特性有機結合起來，敏化劑Yb³⁺離子可以增強980nm泵浦吸收效率，所以我們考慮生長鐿銩摻雜的鈮酸鋰晶體來研究其晶體的上轉換發(fā)光性能，但實驗過程中，我們發(fā)現鐿銩摻雜的鈮酸鋰晶體抗光損傷能力較低。

發(fā)明內容

本發(fā)明是要解決現有的鐿銩摻雜的鈮酸鋰晶體抗光損傷能力較低的問題，而提供一種銦鐿銩三摻雜鈮酸鋰晶體及其制備方法。

本發(fā)明一種銦鐿銩三摻雜鈮酸鋰晶體由Nb₂O₅、LiCO₃、In₂O₃、Yb₂O₃和Tm₂O₃制成；其中所述LiCO₃中的Li與Nb₂O₅中的Nb的摩爾比為0.946∶1；所述的In₂O₃的物質的量占Nb₂O₅、LiCO₃、In₂O₃、Yb₂O₃和Tm₂O₃總物質的量的0.5％～4％；所述的Yb₂O₃的物質的量占Nb₂O₅、LiCO₃、In₂O₃、Yb₂O₃和Tm₂O₃總物質的量的0.5％；所述的Tm₂O₃的物質的量占Nb₂O₅、LiCO₃、In₂O₃、Yb₂O₃和Tm₂O₃總物質的量的0.5％。

上述銦鐿銩三摻雜鈮酸鋰晶體的制備方法，按以下步驟進行：