[發(fā)明專利]一種液晶顯示面板及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310247479.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103323982A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓帥;王春雷;陳俊生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1339 | 分類號(hào): | G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 液晶顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示面板,包括對(duì)盒成形的陣列基板和彩膜基板、以及設(shè)置在兩基板之間的液晶層和隔墊物;其特征在于,還包括設(shè)置在所述隔墊物內(nèi)部的形變層,所述形變層用于在外部條件作用下使所述隔墊物沿垂直盒厚方向膨脹。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述形變層的材質(zhì)為形狀記憶合金。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述形變層包括由硬化劑制成的載體,以及填充在所述載體中的反應(yīng)物;其中所述反應(yīng)物在外部條件作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成生成物,所述生成物用于使所述隔墊物沿垂直盒厚方向膨脹。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述生成物包括密胺樹脂,或尿素樹脂,或聚苯乙烯樹脂,或聚乙烯乙醇。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述形變層設(shè)置在所述隔墊物的50%~80%的高度處。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述隔墊物設(shè)置在所述彩膜基板上或所述陣列基板上。
7.一種液晶顯示面板的制備方法,包括對(duì)盒成形的陣列基板和彩膜基板、以及形成在兩基板之間的液晶層和隔墊物;其特征在于,還包括形成在所述隔墊物內(nèi)部的形變層,所述形變層用于在外部條件作用下使所述隔墊物沿垂直盒厚方向膨脹。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述形變層形成在所述隔墊物的50%~80%的高度處。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述形變層形成在所述隔墊物的50%~80%的高度處包括:
在所述陣列基板或彩膜基板上,通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成50%~80%高度的第一隔墊物圖案;
在所述第一隔墊物圖案上通過(guò)轉(zhuǎn)印技術(shù)形成形狀記憶合金材質(zhì)的所述形變層的圖案,并通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成剩余20%~50%的第二隔墊物圖案;
其中,所述第一隔墊物圖案與所述第二隔墊物圖案構(gòu)成所述隔墊物。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述形變層形成在所述隔墊物的50%~80%的高度處包括:
在所述陣列基板或彩膜基板上,通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成50%~80%高度的第一隔墊物圖案;
在所述第一隔墊物圖案上放置填充有反應(yīng)物的硬化劑載體,所述填充有反應(yīng)物的硬化劑載體形成所述形變層;其中,所述反應(yīng)物在外部條件作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成生成物,所述生成物用于使所述隔墊物沿垂直盒厚方向膨脹;
通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成剩余20%~50%的第二隔墊物圖案;
其中,所述第一隔墊物圖案與所述第二隔墊物圖案構(gòu)成所述隔墊物。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京京東方光電科技有限公司,未經(jīng)北京京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310247479.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





