[發明專利]一種利用物理化學處理制備多孔材料的方法

有效

• 申請號: 201310243901.9
• 申請日: 2013-06-19
• 公開（公告）號: CN103316634A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發明（設計）人: 王朝暉
• 申請（專利權）人: 王朝暉
• 主分類號: B01J20/20
• 分類號: B01J20/20;B01J20/18;B01J20/22;B01J20/08;B01J20/30
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 姚亮

1.一種利用物理化學處理制備多孔材料的方法，其包括以下步驟：

將經高溫活化的基底與金屬固體鹽混合得到混合物，對該混合物進行物理化學處理，然后對產物進行洗滌、脫水、烘干和/或焙燒，得到所述多孔材料；

其中，所述基底為沸石、分子篩、活性氧化鋁、活性碳或者有機官能團，所述金屬固體鹽為含金屬陽離子的硝酸鹽、醋酸鹽或氯化物；

所述物理化學處理包括對所述混合物進行微波加熱處理或者機械混合處理。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述金屬固體鹽與所述基底的質量比為3：7-1：1，優選為3：7-2：3。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述分子篩為13X分子篩或NaY分子篩；

所述有機官能團包括-CO₂H、-CS₂H、-NO₂、-SO₃H、-Si(OH)₃、-Ge(OH)₃、-Sn(OH)₃、-Si(SH)₄、-Ge(SH)₄、-Sn(SH)₄、-PO₃H、-AsO₃H、-AsO₄H、-P(SH)₃、-As(SH)₃、-CH(RSH)₂、-C(RSH)₃、-CH(RNH₂)₂、-C(RNH₂)₃、-CH(ROH)₂、-C(ROH)₃、-CH(RCN)₂、-C(RCN)₃、-CH(SH)₂、-C(SH)₃、-CH(NH₂)₂、-C(NH₂)₃、-CH(OH)₂、-C(OH)₃、-CH(CN)₂和-C(CN)₃中的一種或幾種，并且，R代表包含1至5個苯環的環烷基；

所述金屬固體鹽中的金屬陽離子包括Mg²⁺、Ca²⁺、Sr²⁺、Ba²⁺、Sc³⁺、Y³⁺、Ti⁴⁺、Zr⁴⁺、Hf⁴⁺、V⁴⁺、V³⁺、V²⁺、Nb³⁺、Ta³⁺、Cr³⁺、Mo³⁺、W³⁺、Mn³⁺、Mn²⁺、Re³⁺、Re²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺、Ru³⁺、Ru²⁺、Os³⁺、Os²⁺、Co³⁺、Co²⁺、Rh²⁺、Rh⁺、Ir²⁺、Ir⁺、Ni²⁺、Ni⁺、Pd²⁺、Pd⁺、Pt²⁺、Pt⁺、Cu²⁺、Cu⁺、Ag⁺、Au⁺、Zn²⁺、Cd²⁺、Hg²⁺、Al³⁺、Ga³⁺、In³⁺、Tl³⁺、Si⁴⁺、Si²⁺、Ge⁴⁺、Ge²⁺、Sn⁴⁺、Sn²⁺、Pb⁴⁺、Pb²⁺、As⁵⁺、As³⁺、As⁺、Sb⁵⁺、Sb³⁺、Sb⁺、Bi⁵⁺、Bi³⁺和Bi⁺中的一種或幾種；優選地，所述金屬陽離子為Mg²⁺、Ca²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺、Cu²⁺、Cu⁺和Al³⁺中的一種或幾種。