[發(fā)明專利]一種光刻機工件臺系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310243147.9
• 申請日: 2013-06-19
• 公開（公告）號: CN103309177A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱煜;王磊杰;張鳴;劉召;成榮;楊開明;徐登峰;葉偉楠;田麗;張利;秦慧超;張金;穆海華;尹文生;胡金春;趙彥坡
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 邸更巖

1.一種光刻機工件臺系統(tǒng)，包含機架（1）、基臺（3）、分別運行于曝光工位和預(yù)處理工位的兩個硅片臺，其特征在于：所述工件臺系統(tǒng)還包括測量光柵（5）、雙頻激光器（6）、三自由度外差光柵干涉儀（7）和信號接收與處理部件（8）；

所述的測量光柵（5）采用平面反射型二維光柵，由曝光工位測量光柵（51）和預(yù)處理工位測量光柵（52）組成，曝光工位測量光柵（51）和預(yù)處理工位測量光柵（52）分別對應(yīng)安裝于曝光工位和預(yù)處理工位的兩個硅片臺上方的機架（1）上，且刻有二維反射型光柵槽線的表面面向兩個硅片臺的上表面；

所述的運行于曝光工位和預(yù)處理工位的兩個硅片臺的四角處分別安裝四個三自由度外差光柵干涉儀（7），機架（1）上安裝雙頻激光器（6），通過光纖傳輸分別為運行于曝光工位的硅片臺上的四個三自由度外差光柵干涉儀（7）和運行于預(yù)處理工位的硅片臺上的四個三自由度外差光柵干涉儀（7）提供雙頻正交偏振激光，雙頻激光器（6）同時為信號接收與處理部件（8）提供參考電信號；

所述的雙頻正交偏振激光分別經(jīng)過每個三自由度外差光柵干涉儀（7）后垂直入射至測量光柵（5），產(chǎn)生四束衍射反射光，四束衍射反射光回射至三自由度外差光柵干涉儀（7），然后由三自由度外差光柵干涉儀（7）輸出四路測量光信號，四路測量光信號輸送至信號接收與處理部件（8）中進(jìn)行處理；

所述的運行于曝光工位和預(yù)處理工位的兩個硅片臺分別相對于測量光柵（5）運動時，信號接收與處理部件（8）各輸出四組x、y和z向測量位移，分別利用八組測量值解算出運行于曝光工位和預(yù)處理工位的硅片臺的六自由度位移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻機工件臺系統(tǒng)，其特征在于：三自由度外差光柵干涉儀（7）包括偏振分光鏡（71）、參考光柵（72）、第一折光元件和第二折光元件，所述的參考光柵（72）表面上刻有二維反射型光柵槽線；雙頻正交偏振激光入射至偏振分光鏡（71）后分光，透射光為參考光，反射光為測量光；

所述參考光入射至參考光柵（72）后產(chǎn)生四束衍射反射參考光，四束衍射反射參考光經(jīng)第一折光元件后偏轉(zhuǎn)形成四束平行參考光，四束平行參考光回射至偏振分光鏡（71）后透射形成四束透射參考光；

所述測量光入射至測量光柵（5）后產(chǎn)生四束衍射反射測量光，四束衍射反射測量光經(jīng)第二折光元件后偏轉(zhuǎn)形成四束平行測量光，四束平行測量光回射至偏振分光鏡（71）后反射形成四束反射透射測量光；

四束透射參考光和四束反射測量光分別兩兩重合形成四路測量光信號，四路測量光信號分別經(jīng)光纖傳輸至信號接收與處理部件（8）進(jìn)行處理；

當(dāng)三自由度外差光柵干涉儀（7）相對于測量光柵（5）進(jìn)行x方向、y方向和z方向三個自由度的線性運動時，信號接收與處理部件（8）將輸出三自由度線性位移。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種光刻機工件臺系統(tǒng)，其特征在于：所述的第一折光元件和第二折光元件均采用位于xoy平面的兩個直角棱鏡和位于xoz平面的兩個直角棱鏡集成的折光棱鏡（73）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種光刻機工件臺系統(tǒng)，其特征在于：所述的第一折光元件和第二折光元件均采用透鏡（74）。