[發明專利]一種柔性印刷版的制版方法和主曝光設備

有效

• 申請號: 201310242633.9
• 申請日: 2013-06-19
• 公開（公告）號: CN103331988A
• 公開（公告）日: 2013-10-02
• 發明（設計）人: 汪海洋;傅文珍;許冬生
• 申請（專利權）人: 汪海洋
• 主分類號: B41C1/00
• 分類號: B41C1/00;G03F7/20
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 張堅

技術領域

本發明涉及柔性版印刷技術領域，尤其涉及一種柔性印刷版的制版方法和主曝光設備。

背景技術

柔性版印刷是一種印刷方法，其使用在橡皮印版或光敏聚合物印版中的彈性浮雕圖像來印刷諸如紙箱、袋子、標簽或書本等制品。已經發現柔性版印刷在包裝行業中具有特殊的應用，在該行業中柔性版印刷在許多情況下已經代替了照相凹版印刷和平版膠印技術。

在印刷領域中，形成上述浮雕圖像的方法通常是，將具有設定圖案的掩膜層遮蔽在含有光敏彈性體（或稱之為光敏層）的未曝光的印刷版坯體上，使用激光燒蝕光敏層上的黑色掩膜層并將其蒸發，掩膜層上圖文部分變成透明的區域；之后通過光化輻射(通常為紫外光輻射)曝光印刷版坯體底面，光敏層內底層部分的引發劑分解成自由基，引發可交聯單體反應而固化，以建立穩固的柔性版底基；同時曝光印刷版坯體正面，掩膜層透明的區域透過紫外光，光敏層內上層的引發劑分解成自由基，引發可交聯單體反應而固化。未透過紫外線的區域不能發生交聯反應，利用它們在洗版液中溶解度的差異，洗版并進行烘干、去粘等后處理后得到含有文字圖案的浮雕印版。而在此領域中，一種可形成上述帶透明區域的掩膜層方式為：首先用激光輻射(通常為由計算機控制的紅外輻射)將所述元件成像曝光，以選擇性地除去曝光區域中的掩模層，然后用光化輻射(通常UV輻射)將所述元件全面曝光，以使透明區域中的光敏層固化。

在上述技術方案中，主曝光時間長短和曝光強度主要由印刷版坯體材料、規格尺寸以及浮雕圖案形狀來確定。主曝光時間長短和曝光強度均為單一參數，不可調整；曝光時間過短或曝光強度過低會使圖文坡度太直，線條彎曲、網點丟失，小字、小點部分被洗掉；反之，曝光時間過長或曝光強度過高會導致陰圖文較淺，產生敷版，字跡模糊等現象。

在以上所描述的數字化制版方法中，掩模和曝光結合通常會產生圓臺形的凸紋網點，可參見圖3，其為理想中網點的形態。但由于氧氣起自由基捕捉劑的作用，固化反應可以被溶解在光敏層（通常為樹脂組合物）中的氧分子抑制，這種情況下會產生如圖4所示的情況，網點的外周部分被侵蝕導致網點縮小。在現有技術中，盡可能避免氧氣侵蝕的方法主要有以下兩種：

一種是在曝光之后，洗版前減少光敏層的溶解氧濃度，將元件置于惰性氣體氣氛(如二氧化碳氣體或氮氣)中來置換溶解的氧來完成。這種方法的缺點是操作麻煩，不方便并且需要用于放置設備的大型密閉空間。

另一種公知的方法是將印刷版進行光化輻射的預曝光。使用大功率、短時間的LED光源對帶透明區域的掩膜層和光敏層復合元件進行曝光，在光敏層表面形成一薄的固化層，其顯然降低了光敏層內溶解氧的濃度，因而有助于微細特征(如加亮點、細線、孤立點等)保留在最終印刷版。然而，這種把主曝光分為預曝光+主曝光的二步發工藝提高了設備的復雜程度，而且由于預曝光的光強度和曝光時間在全幅面上是一致的，這也導致了在大塊圖文區域和細小圖文區域的氧氣侵蝕效應差異，也就導致了大塊圖文區域和細小圖文區域的印版仍存在輕微的差異。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術結構上的缺點，提出一種柔性印刷版的制版方法和主曝光設備，通過采用點陣式排布的LED進行曝光，避免了氧氣侵蝕的問題。

為了達到上述發明目的，本發明首先提出的一種柔性印刷版的制版方法，是通過以下技術方案實現的:

一種柔性印刷版的制版方法，至少包括如下步驟：提供具有光敏層及置于該光敏層上的掩膜層的印刷版坯體；基于待形成的印刷版圖文形狀，選擇性地激光燒蝕所述掩模層，以有選擇地曝露出所述光敏層；主曝光光源對所述印刷版坯體進行，使被曝露的光敏層固化而形成網點；其特征在于，所述主曝光光源包括若干點陣式排布的LED，以及控制各LED曝光高度的執行機構；該些LED各連接一調光器；所述主曝光的具體方法包括:

建立所述圖文形狀和各LED之間的對應關系，所述對應關系至少包括每一LED所對應圖文形狀區域中的網點數量；基于所述對應關系控制各LED進行第一主曝光，以在被曝露的光敏層頂部形成厚度與所述圖文形狀相關的隔氧層；之后，基于所述對應關系控制各LED進行第二主曝光，以形成所述網點；

在所述主曝光過程中，若一LED所對應區域的網點數量為零時，其自始至終不發光；除不發光LED外，在第一主曝光中，各LED所對應區域的曝光量與其網點數量負相關，在第二主曝光中，各LED所對應區域的曝光量與其網點數量正相關；

所述LED在所述第一主曝光中的曝光高度低于第二主曝光、光強大于第二主曝光、曝光時間小于第二主曝光。