[發明專利]一種基于復合襯底的銅銦鎵硒薄膜及其制備方法無效
| 申請號: | 201310240968.7 | 申請日: | 2013-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN103311329A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 薛玉明;張嘉偉;喬在祥;趙彥民;李微;許楠;潘宏剛;宋殿友;李鵬海;劉君;朱亞東;尹富紅;劉浩;馮少君 | 申請(專利權)人: | 天津理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/02;H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 復合 襯底 銅銦鎵硒 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于復合襯底的銅銦鎵硒薄膜,其特征在于:該銅銦鎵硒薄膜為基于聚酰亞胺膜-蘇打玻璃復合襯底的銅銦鎵硒薄膜,由玻璃、聚酰亞胺和銅銦鎵硒吸收層薄膜組成并形成疊層結構,其中襯底由蘇打玻璃及生長于其表面的聚酰亞胺膜構成,蘇打玻璃的厚度為1.5-2mm,聚酰亞胺膜厚度為25-30μm;銅銦鎵硒吸收層薄膜的化學分子式為CuIn1-xGaxSe2,式中x為0.25-0.35,導電類型為p型,薄膜厚度為1.5-2μm。
2.一種如權利要求1所述基于復合襯底的銅銦鎵硒薄膜的制備方法,其特征在于:首先將聚酰亞胺膠涂于蘇打玻璃表面,固化成聚酰亞胺膜-蘇打玻璃復合襯底,然后在其表面制備銅銦鎵硒薄膜。
3.根據權利要求2所述基于復合襯底的銅銦鎵硒薄膜的制備方法,其特征在于:所述聚酰亞胺膜-蘇打玻璃復合襯底的制備方法,步驟如下:
1)對蘇打玻璃進行表面清洗,清洗方法是:
首先將10cm×10cm的蘇打玻璃放入重鉻酸鉀溶液中浸泡2h,重鉻酸鉀溶液由300克重鉻酸鉀、3升濃硫酸和300毫升去離子水配置而成,將蘇打玻璃取出用去離子水沖洗后置于濃度為99.5w%的丙酮溶液中,放入超聲波清洗機中清洗,超聲波頻率為20-30kHz,時間為20-25min,然后將蘇打玻璃從丙酮溶液中取出,用去離子水沖洗后置于濃度為99.7w%的酒精中,放入超聲波清洗機中清洗超聲波頻率為20-30kHz,時間為20-25min,最后將蘇打玻璃從酒精中取出,放入盛有去離子水的燒杯中,放入超聲波清洗機中清洗3遍,超聲波頻率為20-30kHz,時間為20-25min;
2)將聚酰亞胺膠涂覆于蘇打玻璃表面,采用勻膠工藝進行勻膠,工藝參數為:轉速為1300-1500r/min,時間為35-45s;
3)將勻膠后的樣品放入烘箱內進行固化,即可得到聚酰亞胺膜-蘇打玻璃復合襯底,所述固化工藝的升溫保溫程序為:烘箱溫度升溫至125-135℃,升溫時間為10-15min,并在125-135℃下維持25-30min;將烘箱溫度升溫至150-160℃,升溫時間為5-10min,并在150-160℃下維持10-15min;將烘箱溫度升溫至200-210℃,升溫時間為5-10min,并在200-210℃下維持15-20min;將烘箱溫度升溫至250-260℃,升溫時間為5-10min,并在250-260℃下維持15-20min;將烘箱溫度升溫至340-350℃,升溫時間為5-10min,并在340-350℃下維持10-15min,然后緩慢降溫至18-25℃,即可得到聚酰亞胺膜-蘇打玻璃復合襯底。
4.根據權利要求2所述基于復合襯底的銅銦鎵硒薄膜的制備方法,其特征在于:所述銅銦鎵硒吸收層薄膜的制備方法,采用硒化爐薄膜制備系統和共蒸發改進型一步法制備工藝,步驟如下:
1)將待制備樣品置于共蒸發系統中,在本底真空為3.0×10-4Pa、襯底溫度為350-400℃下,共蒸發In、Ga、Se高Ga含量預制層,其中In蒸發源溫度為820-850℃,Ga蒸發源溫度為920-950℃,Se蒸發源溫度為240-280℃,蒸發時間為2-3min,控制In/Ga的原子比例為0.3:0.7,(In+Ga)/Se的原子比例為2:3;
2)在襯底溫度為550-580℃下,共蒸發Cu、In、Ga、Se,其中Cu蒸發源溫度為1120-1160℃,In蒸發源溫度為850-900℃,Ga蒸發源溫度為880-920℃,Se蒸發源溫度為240-280℃,蒸發時間為25-30min,控制In/Ga的原子比例為0.7:0.3,(In+Ga)/Se的原子比例為2:3;
3)將襯底冷卻,當蒸發Se的同時將襯底冷卻到350℃時的襯底溫度時,關閉Se蒸發源,再將襯底冷卻至18-25℃即可。
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