[發(fā)明專利]一種提高方阻均勻性的裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310240473.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103311373A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許文鳳;郭興剛;錢昆;賈靜;呂高龍;陳龍;張滿良;梁漢杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奧特斯維能源(太倉(cāng))有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L21/22;H01L31/042 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 劉燕嬌 |
| 地址: | 215434 江蘇省蘇州*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提高 均勻 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種提高方阻均勻性的裝置。
技術(shù)背景
隨著方阻阻值的升高,方阻片內(nèi)的擴(kuò)散均勻性會(huì)越來(lái)越差,目前在研究太陽(yáng)能電池片的過(guò)程中,發(fā)現(xiàn)是否能得到高效的太陽(yáng)能電池片主要難點(diǎn)是能否得到低表面濃度的高方阻,因此如何提高方阻的擴(kuò)散均勻性很有研究的意義。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種提高方阻均勻性的方法,該方法通過(guò)改變擴(kuò)散爐管內(nèi)進(jìn)氣球碗的結(jié)構(gòu),提高了待擴(kuò)散物質(zhì)在擴(kuò)散爐管內(nèi)的均勻性,從而提高了方阻片內(nèi)的均勻性。
發(fā)明內(nèi)容:為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:
一種提高方阻均勻性的裝置,包括位于擴(kuò)散爐管內(nèi)的進(jìn)氣球碗,所述進(jìn)氣球碗包括進(jìn)氣端、球碗部分和排氣端,所述進(jìn)氣端和球碗部分相互連通,所述排氣端呈U型,其一端端口封閉,另一端端口與所述球碗部分連接,在排氣端與球碗部分的連接處設(shè)有閥門,排氣端的側(cè)壁上設(shè)有孔。
其中,所述排氣端側(cè)壁上孔的個(gè)數(shù)為4個(gè)。
其中,所述排氣端具有兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁,4個(gè)孔位于其中一個(gè)側(cè)壁上,或分別位于兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁上。
其中,所述閥門與排氣端封閉一端端口的距離為15-20mm。
其中,所述進(jìn)氣球碗的長(zhǎng)度為200mm。
其中,所述進(jìn)氣端的長(zhǎng)度為31.5mm。
反應(yīng)原理:待擴(kuò)散物質(zhì)從進(jìn)氣端進(jìn)入進(jìn)氣球碗,在球碗部分混合均勻后,由于待擴(kuò)散物質(zhì)里含有氣體,氣體壓力將球碗部分與排氣端連接處的閥門打開(kāi),并將待擴(kuò)散物質(zhì)經(jīng)過(guò)排氣端側(cè)壁上的孔均勻噴灑到擴(kuò)散爐管內(nèi),在擴(kuò)散爐管內(nèi)形成均勻的氣流,待擴(kuò)散物質(zhì)在擴(kuò)散爐管內(nèi)的均勻性提高,從而實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)散方阻片的高均勻性。待擴(kuò)散物質(zhì)為N2、O2和LN2。
有益效果:相比于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的裝置通過(guò)改變擴(kuò)散爐管內(nèi)進(jìn)氣球碗的結(jié)構(gòu),使待擴(kuò)散物質(zhì)在進(jìn)氣球碗中混合均勻再將混合均勻的待擴(kuò)散物質(zhì)均勻的噴灑到擴(kuò)散爐管內(nèi),通過(guò)將待擴(kuò)散物質(zhì)在擴(kuò)散爐管內(nèi)的均勻性提高,從而實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)散方阻片的高均勻性,本發(fā)明的裝置大大提高了方阻片內(nèi)的均勻性,即使是高方阻片,方阻片內(nèi)仍然可以保持高的均勻性。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明提供的提高擴(kuò)散方阻均勻性裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡明本發(fā)明,應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍,在閱讀了本發(fā)明之后,本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的各種等價(jià)形式的修改均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍。
如圖1所示,一種提高方阻均勻性的裝置,包括位于擴(kuò)散爐管內(nèi)的進(jìn)氣球碗5,所述進(jìn)氣球碗5包括進(jìn)氣端1、球碗部分2和排氣端3,所述進(jìn)氣端1和球碗部分2相互連通,所述排氣端3呈U型,其一端端口封閉,另一端端口與所述球碗部分2連接,在排氣端3與球碗部分2的連接處設(shè)有閥門4,排氣端的側(cè)壁上設(shè)有孔,排氣端3側(cè)壁上孔的個(gè)數(shù)為4個(gè),排氣端3具有兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁,4個(gè)孔可以開(kāi)在其中一個(gè)側(cè)壁上,也可以分別開(kāi)在兩個(gè)相對(duì)的側(cè)壁上,所述閥門4與排氣端3封閉的一端距離為15~20mm,進(jìn)氣球碗5的長(zhǎng)度為200mm,進(jìn)氣端1的長(zhǎng)度為31.5mm。
反應(yīng)原理:待擴(kuò)散物質(zhì)從進(jìn)氣端1進(jìn)入進(jìn)氣球碗5,在球碗部分2混合均勻后,由于待擴(kuò)散物質(zhì)里含有氣體,氣體壓力將球碗部分2與排氣端3連接處的閥門4打開(kāi),并將待擴(kuò)散物質(zhì)經(jīng)過(guò)排氣端3側(cè)壁上的孔均勻噴灑到擴(kuò)散爐管內(nèi),在擴(kuò)散爐管內(nèi)形成均勻的氣流,待擴(kuò)散物質(zhì)在擴(kuò)散爐管內(nèi)的均勻性提高,從而實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)散方阻片的高均勻性。待擴(kuò)散物質(zhì)為N2、O2和LN2。
本發(fā)明的裝置通過(guò)改變擴(kuò)散爐管內(nèi)進(jìn)氣球碗的結(jié)構(gòu),使待擴(kuò)散物質(zhì)在進(jìn)氣球碗中混合均勻再將混合均勻的待擴(kuò)散物質(zhì)均勻的噴灑到擴(kuò)散爐管內(nèi),通過(guò)將待擴(kuò)散物質(zhì)在擴(kuò)散爐管內(nèi)的均勻性提高,實(shí)現(xiàn)了擴(kuò)散方阻片的高均勻性。本發(fā)明的裝置大大提高了方阻片內(nèi)的均勻性,即使是高的方阻片,方阻片內(nèi)仍然可以保持高均勻性。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





