[發明專利]具有高比表面積和晶化孔壁的介孔Co3O4材料及其制備方法和應用無效
| 申請號： | 201310240026.9 | 申請日： | 2013-06-17 |
| 公開（公告）號： | CN103274482A | 公開（公告）日： | 2013-09-04 |
| 發明（設計）人： | 王永霞;崔香枝;施劍林;陳立松 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | C01G51/04 | 分類號： | C01G51/04;B01J23/75 |
| 代理公司： | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;鄭優麗 |
| 地址： | 200050 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 表面積 晶化孔壁 co sub 材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種制備具有高比表面積和晶化孔壁的介孔Co3O4材料的方法，其特征在于，所述方法包括：
將包含鈷源的乙醇前驅液與具有三維立方孔道結構的介孔二氧化硅模板混合，攪拌直至溶劑揮干，以通過一步納米灌注法使所述前驅液完全灌注至所述模板的介孔孔道中從而制得前驅體/模板復合物；
將所述前驅體/模板復合物進行熱處理以制得Co3O4/模板復合物；
用強酸或強堿去除所述Co3O4/模板復合物中的所述模板以制得所述介孔Co3O4材料。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述鈷源是易溶于乙醇的鈷鹽。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述鈷源是硝酸鈷和/或乙酸鈷、氯化鈷。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的方法，其特征在于，在所述乙醇前驅液中，所述鈷源的濃度為150～160g/L。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的方法，其特征在于，所述鈷源與所述模板的質量比為4:1～5:1。
6.根據權利要求1～5中任一項所述的方法，其特征在于，所述熱處理是在500～1000℃處理2～8小時。
7.根據權利要求1～6中任一項所述的方法，其特征在于，所述前驅體/模板復合物在進行所述熱處理之前于60～80℃烘干處理2～8小時以使所述溶劑完全揮發。
8.據權利要求1～7中任一項所述的方法，其特征在于，所述前驅體/模板復合物在進行所述熱處理之前于水浴鍋中60～80℃攪拌處理2～8小時以使所述溶劑揮發形成膠狀體。
9.根據權利要求1～8中任一項所述的方法，其特征在于，所述強堿為1～3M?NaOH水溶液。
10.一種由權利要求1～9中任一項所述的方法制備的具有高比表面積和晶化孔壁的介孔Co3O4材料，其特征在于，所述材料的比表面積為40～100?m2/g，孔徑為4～12?nm；且具有晶化孔壁。
11.一種根據權利要求10所述的具有高比表面積和晶化孔壁的介孔Co3O4材料在NO催化氧化中的應用。
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