[發明專利]一體化連續生產薄膜的裝置及制膜方法有效
| 申請號: | 201310239651.1 | 申請日: | 2013-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN103311371A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 汪浩;鄭慧娟;栗曉辰;孫玉繡;劉晶冰;嚴輝;朱滿康 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 張慧 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一體化 連續生產 薄膜 裝置 方法 | ||
1.一體化連續生產薄膜的裝置,其特征在于,主要包括送液裝置(1)、電磁控制閥(2、4)、鍍膜裝置、電磁轉向閥(7)、儲液裝置(5)、機械泵(6)、廢液裝置(8)、傳送裝置、轉軸(10)、加熱裝置以及連接各部件的管道;鍍膜裝置包括:鍍膜裝置上蓋(301)、鍍膜裝置箱體(302)、進液口(304)、循環進液口(305),鍍膜裝置箱體的兩端均有開口和相應的鍍膜裝置倉門(303)(兩個),鍍膜裝置倉門303可將兩端的開口封閉;傳送裝置包括:傳送帶(901)、可固定襯底(903)的夾具(902),夾具(902)固定在傳送帶(901)上;加熱裝置包括:烘干箱(1101)、與烘干箱(1101)并排的退火箱(1103)、退火箱(1103)內的載物臺(1105),烘干箱兩端設有開口并有相應的烘干箱倉門1102(兩個),烘干箱倉門可將烘干箱兩端的開口的封閉,烘干箱(1101)與退火箱(1103)之間開有通口并有相應的退火箱倉門(1104),退火箱倉門可將烘干箱(1101)與退火箱(1103)之間的通口封閉;送液裝置的底部與鍍膜裝置的進液口連接,鍍膜裝置箱體(302)的底端設有出液口與儲液裝置(5)連通,儲液裝置(5)底端設有出水口與機械泵(6)的一端相連,機械泵(6)的另一端通過電磁轉向閥(7)與鍍膜裝置的循環進液口(305)連接形成循環回路,電磁轉向閥(7)的第三端與廢液裝置(8)連接,在鍍膜裝置和儲液裝置之間有電磁控制閥(4),送液裝置(1)與鍍膜裝置的進液口(2);傳送帶(901)能夠通過鍍膜裝置箱體兩端的開口將固定有襯底(903)的夾具(902)送至鍍膜裝置箱體(302)內,傳送帶(901)經轉軸(10)導向從烘干箱的開口進入烘干箱內,從烘干箱另一開口出來的傳送帶(901)直接進入鍍膜裝置的開口,形成循環的傳送帶(901)。
2.按照權利要求1的裝置,其特征在于,送液裝置、鍍膜裝置、儲液裝置、廢液裝置以及加熱裝置都固定不動。
3.按照權利要求1的裝置,其特征在于,儲液裝置的底部為平底、錐底或圓底結構。
4.按照權利要求1的裝置,其特征在于,儲液裝置的底部為錐底結構,在錐底處設計有一直徑為15mm±1mm的出水口。
5.按照權利要求1的裝置,其特征在于,轉軸(10)為兩叉狀,在兩叉端均安裝有滑輪,兩滑輪之間的距離d大于夾具、襯底,可使夾具、襯底從叉間通過。
6.采用權利要求1的裝置進行鍍膜的方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)傳送帶(901)將襯底(903)置于鍍膜裝置箱體(302)內,關閉鍍膜裝置的兩個倉門(303),打開電磁控制閥(2),使送液裝置(1)中的鍍液進入鍍膜裝置箱體(302)內直至浸沒襯底(903);
(2)打開電磁控制閥(4)使鍍膜裝置箱體(302)的鍍液滴入儲液裝置(5)中,從而使鍍膜裝置箱體(302)的液面不斷下降對襯底(903)進行鍍膜;
(3)傳送帶(901)將步驟(2)的襯底送至烘干箱(1101),關閉烘干箱倉門1102(兩個)和退火箱倉門(1104)進行烘干;
(4)開啟機械泵(6)使儲液裝置(5)中的鍍液從循環進液口(305)進入鍍膜裝置箱體(302),不斷循環鍍膜和烘干,直到達到所需厚度;
(5)烘干結束后,卸載夾具(902)并打開退火箱倉門(1104),將襯底(903)推入退火箱中的載物臺(1105)上,再關閉退火箱倉門(1104),由真空泵(1106)對退火箱進行抽真空,并在退火箱中完成退火。
7.按照權利要求6的方法,其特征在于,所述電磁控制閥(2)、(4)控制液體的流速使每分鐘液面下降1-20cm。
8.按照權利要求6的方法,其特征在于,所述傳送帶(901)運行的速度由數字電腦控制,其運行速度為每分鐘0-100cm,即運行或暫停。
9.按照權利要求6的方法,其特征在于,所述傳送帶(901)貫穿鍍膜裝置和加熱裝置,形成環狀結構。
10.按照權利要求6的方法,其特征在于,所述加熱裝置溫度及時間的設定由電腦控制,烘干箱(1101)溫度為100-180℃,退火箱(1103)溫度為200-600℃,退火時間為10-120min。
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H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





