[發明專利]用于干涉式間距測量的設備有效
| 申請號: | 201310238005.3 | 申請日: | 2013-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN103512505B | 公開(公告)日: | 2017-05-10 |
| 發明(設計)人: | W.胡貝爾;R.約爾格;W.霍爾薩普費爾 | 申請(專利權)人: | 約翰內斯·海德漢博士有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/14 | 分類號: | G01B11/14 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 臧永杰,王忠忠 |
| 地址: | 德國特勞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 干涉 間距 測量 設備 | ||
1.用于干涉式間距測量的設備,具有:
-測量反射器,
-光源,
-分裂元件,該分裂元件將由光源發射的射線束分裂為至少一個測量射線束和至少一個參考射線束,其中測量射線束在進一步的射線進程中至少兩次轟擊測量反射器,
-會聚元件,在所述會聚元件處測量射線束和參考射線束達到干涉性疊加,以及具有
-探測器裝置,經由所述探測器裝置能夠從干涉性測量和參考射線束中關于測量反射器與該設備的一個或多個其它部件之間沿著測量方向的間距產生至少一個間距信號,其中所述測量反射器相對于所述部件的至少一部分間距可變地布置,
其特征在于,
分裂元件被構造為分裂光柵(11;111;211),并且光源(16;116;216)在分裂光柵(11;111;211)的方向上平行于測量反射器(1;100;200)的表面地發射射線束,其中分裂光柵(11;111;211)垂直于測量反射器(1;100;200)的表面地布置。
2.根據權利要求1的設備,其特征在于,光源(16;116;216)、分裂光柵(11;111;211)、會聚元件和探測器裝置(18;118;218)與其它部件一起布置在掃描單元(10;110;210)中,該掃描單元相對于測量反射器(1;100;200)至少沿著測量方向間距可變地布置。
3.根據權利要求1或2的設備,其特征在于,分裂光柵(11;111;211)布置在板狀的載體元件(12A,12B;112A,112B;212A,212B)上,并且該載體元件(12A,12B;112A,112B;212A,212B)垂直于測量反射器(1;100;200)表面取向地布置。
4.根據權利要求1的設備,其特征在于,在參考射線束和測量射線束的光路中在分裂光柵(11;111;211)與會聚元件之間分別布置至少兩個偏轉元件(13.1, 13.2, 14.1, 14.2; 113.1a, 113.1b, 113.2a, 113.2b, 114.1a, 114.1b, 114.2a, 114.2b; 213.1, 213.2, 214.1, 214.2),其中經由每個偏轉元件(13.1, 13.2, 14.1, 14.2; 113.1a, 113.1b, 113.2a, 113.2b, 114.1a, 114.1b, 114.2a, 114.2b; 213.1, 213.2, 214.1, 214.2)對入射的射線束要么產生沿著測量方向的偏轉作用要么產生沿著和垂直于測量方向的偏轉作用。
5.根據權利要求4的設備,其特征在于,經由偏轉元件(13.1, 13.2, 14.1, 14.2; 113.1a, 113.1b, 113.2a, 113.2b, 114.1a, 114.1b, 114.2a, 114.2b; 213.1, 213.2, 214.1, 214.2)
-入射到其上的準直的射線束還遭受到線焦點上的聚焦作用,其中該線焦點沿著測量方向延伸,以及
-對入射到其上的分散的射線束還產生準直作用。
6.根據權利要求4的設備,其特征在于,所述偏轉元件包括布置在垂直于測量反射器(1;100;200)布置的載體元件(12A,12B;112A,112B,212A,212B)上的衍射結構。
7.根據權利要求5的設備,其特征在于,偏轉元件(13.1, 13.2, 14.1, 14.2)被構造為反射性菲涅耳圓柱透鏡,其中經由反射性菲涅耳圓柱透鏡對入射的射線束除了聚焦作用之外附加地還產生沿著測量方向的偏轉作用。
8.根據權利要求7的設備,其特征在于,經由所述偏轉元件(13.1, 13.2, 14.1, 14.2)中的兩個對入射的射線束產生到線焦點上的聚焦作用。
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