[發明專利]織物和包括織物的制品

有效

• 申請號: 201310236319.X
• 申請日: 2013-06-14
• 公開（公告）號: CN103343421A
• 公開（公告）日: 2013-10-09
• 發明（設計）人: 錢友三;王璐;甘霖
• 申請（專利權）人: 3M材料技術（廣州）有限公司
• 主分類號: D04B21/02
• 分類號: D04B21/02;D04B21/14;A44B18/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 顧晉偉;李德山

技術領域

本發明的實施方案涉及帶有毛圈的織物和包括該織物的制品。所述的織物和制品可以用于消費品領域，尤其適用于制造日用品、服裝、運動器具、衛生用品、醫療產品，還可以用于工業產品的固定裝置。

背景技術

通常，表面扣件具有適于與凸出接合元件配合的凹入接合元件的表面，能夠方便地與凸出接合元件實現連接或分離操作。這種表面扣件的凹入接合元件可以利用從織物表面向外伸出的毛圈來形成。在許多應用中，織物可通過粘合劑結合到各種制品上。帶有毛圈的織物易于制成表面扣件，通過毛圈與凸出接合元件的接合，可方便地實現物品之間的可分離連接。由織物形成的扣件的一個具體的應用例子是粘合到尿布上的前貼。

對于這類扣件，由于通常應用于日常消費品領域，希望以低的成本提供能夠實現牢固連接的織物。此外，還期望帶有毛圈的織物能夠提供均衡的剝離力。在扣件閉合后，用戶施加剝離力以打開該可分離連接時會感受到扣件提供的抵抗力，如果從不同方向上感受到的抵抗力明顯不同，就可能會產生扣件不能實現牢固連接的感覺。現有技術中已經嘗試使得從織物表面伸出的毛圈具有左右交替的方向，減小不同方向剝離力的差別。

為了改善帶有毛圈的織物作為表面扣件的性能，業界已經進行了很多努力。日本專利申請公開2005-253667公開了一種用作表面扣件的織物，該織物包括按照1-0/3-4織造毛圈層，按照0-1/1-0織造的經紗層和按照0-0/3-3織造的緯紗層。

日本專利申請2004-236960公開了一種鉤環扣件的母元件，該母元件的織物通過將毛圈織造為其方向左右交替不同，從而降低了扣件剝離力在不同方向上的差異。所述織物在織造時，使梳櫛按照下列墊紗運動形成特定的毛圈組織：前梳櫛1-0/0-1，中梳櫛1-0/2-1/2-3/1-2和后梳櫛為0-0/3-3。

PCT/US2009/055817公開了一種適于作為母元件的針織織物，該織物由經紗、緯紗和圈紗構成，通過圈紗從織物的僅一個表面交替地向左和向右突出，形成絨面，從而降低了接合力的左右差值。所述織物的組織圖案典型地為圈紗1-0/3-4/6-7/4-3，經紗1-0/0-1/0-1/1-0，和緯紗0-0/3-3。

US6096667公開了一種由織物形成的鉤環扣件，該扣件可以通過針織機的前梳櫛形成毛圈，而通過后梳櫛形成位于編鏈組織之間的基本上相互平行的緯紗的襯緯組織。按照3-2/1-2/0-1/2-1，3-4/0-1/4-3/7-6或3-4/2-3/4-3/7-6/3-4/0-1/4-3/5-4織造的自由毛圈從織物每一縱行伸出交替偏向左和右側。

在上述織物的應用中，常常需要將織物的非連接表面粘合到其他物體上。例如在尿布的前貼的應用中，織物的非連接表面通過粘合劑粘合到塑料薄膜上。在粘合劑和塑料薄膜之間，還可以任選地存在印刷層。這類織物大多應用于快速消費品領域，消費者和生產商都非常希望降低織物的成本，同時仍然保證足夠高的連接強度。

此外，在將織物通過粘合劑結合到各種制品上時，粘合劑容易從織物的粘合面滲漏到織物帶有毛圈的一面，造成毛圈粘附在織物表面上，降低了織物毛圈的剝離力。降低成本往往與減少粘合劑滲漏是相互矛盾的，采用更低成本制造的織物通常更容易發生粘合劑滲漏。因此，難以實現允許低成本地制造同時又能夠減少或消除粘合劑從織物的一面滲漏到另一面的用于扣件的織物。

本發明人通過反復嘗試，出人意料地發現，采用新穎的織物設計，獲得了能夠以低的成本制造同時明顯減少或消除粘合劑滲漏的織物。有利的是，所述織物的用于可分離連接時沿不同方向的剝離力差異小。所述織物適合于諸如扣件等連接用途的織物，可以應用于各種涉及可分離連接的制品，尤其適用于日用品、服裝、運動器具、衛生用品、醫療產品，此外還可以應用于工業產品的固定裝置。

發明內容

本發明實施方案提供一種織物，能夠減少或消除設置在織物背面的粘合劑向織物正面的毛圈層滲透。

根據本發明的一個方面，本發明提供一種織物，所述織物包括毛圈層、經紗層和緯紗層，其中，所述緯紗層通過至少閉合節點接合到所述經紗層上。

根據本發明的某些優選實施方式，所述織物可以是針織織物，所述經紗層可以是經編層，所述緯紗層可以是襯緯層，所述毛圈層包括從所述針織織物的一個表面向外伸出的一個或更多個毛圈，所述襯緯層的緯紗通過至少閉合節點接合到所述經編層上。