[發明專利]一種制造聚噻吩基氧化石墨烯還原復合材料的方法

無效

• 申請號: 201310235014.7
• 申請日: 2013-06-14
• 公開（公告）號: CN103289063A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 徐建華;楊文耀;李金龍;張輝;楊亞杰
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: C08G61/12
• 分類號: C08G61/12;C08K9/00;C08K3/04
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 譚新民

1.一種制造聚噻吩基氧化石墨烯還原復合材料的方法，其特征在于，包括：

將氧化石墨烯片分散在第一溶劑中，獲得第一混合溶液；

在所述第一混合溶液中加入噻吩單體，并使所述噻吩單體在所述第一混合溶液中分散，獲得第二混合溶液；

在所述第二混合溶液中加入氧化劑溶液，并冰浴反應第一時間，獲得第三混合溶液；

在所述第三混合溶液中加入還原劑溶液，充分攪拌之后水浴反應第二時間，獲得第四混合溶液；

用鹽酸和清洗溶液清洗所述第四混合溶液去除所述第四混合溶液中的雜質離子，然后過濾所述第四混合溶液并干燥濾出物，獲得所述聚噻吩基氧化石墨烯還原復合材料。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述第一溶劑是去離子水、異丙醇、乙醇、正丁醇或者氯仿。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述將氧化石墨烯片分散在第一溶劑中包括：將所述氧化石墨烯片加入所述第一溶劑中并超聲分散1至2小時。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述第一混合溶液中所述氧化石墨烯片的濃度為0.5毫克/毫升至10毫克/毫升。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述使所述噻吩單體在所述第一混合溶液中分散包括：在所述第一混合溶液中加入所述噻吩單體后，攪拌所述第一混合溶液并超聲1至2小時,?并且所述氧化石墨烯片與所述噻吩單體重量比為2:1~1:2。

6.如權利要求1至5中任意一項所述的方法，其特征在于：所述氧化劑溶液的濃度為5%~15%，并且所述氧化劑溶液和所述噻吩單體的重量比為1:1至10:1。

7.如權利要求1至6中任意一項所述的方法，其特征在于：所述氧化劑溶液為氯化鐵溶液、過硫酸銨溶液或者對甲苯磺酸鐵溶液，所述第一時間為12至24小時。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述還原劑溶液為濃度為80%的水合肼水溶液或者濃度為48%的溴化氫水溶液，所述還原劑溶液與所述噻吩單體的重量比為10:1至10:8。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述第二時間為4小時，所述水浴反應的溫度為75~95℃。

10.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述清洗溶液為乙醇、丙酮或者去離子水。