[發明專利]壓電陶瓷超聲霧化片

無效

• 申請號: 201310234547.3
• 申請日: 2013-06-14
• 公開（公告）號: CN103464330A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 陳道根;張建輝;曹炳鑫;黃俊
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: B05B17/06
• 分類號: B05B17/06
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 葉連生

技術領域

本發明涉及一種將液體進行霧化的裝置，尤其涉及一種采用壓電陶瓷換能器進行超聲霧化的霧化片。

技術背景

生活中，人為地將液體打散細化成微小顆粒狀的過程，稱之為“霧化”。實現霧化的裝置有很多，比如，廣泛使用的壓縮型霧化器，以及現階段快速發展的壓電式霧化裝置。作為一種容積式霧化裝置是壓縮型霧化工程需要人力或電機帶動來實現容積的交替變化，因此結構上較為復雜且不易小型化。

近些年，隨著壓電材料以及理論的不斷發展和成熟，各種結構的壓電式霧化裝置不斷被提出。與壓縮型霧化裝置不同，壓電式霧化裝置不需要外力的驅動，所以結構上更為簡單，易于小型化和微型化的實現。但需要注意的是，現階段使用的壓電式霧化器在霧化過程中存在著霧化顆粒大小不均、霧化效果不佳的問題。

發明內容

本發明目的在于提出了一種霧化孔孔徑大小分布不一致的壓電陶瓷霧化片，用以解決現階段霧化片工作中存在的霧化顆粒大小不均，霧化效果不理想的問題。

第一種壓電陶瓷超聲霧化片，其特征在于：包括第一金屬膜片和第一壓電陶瓷環片；所述的第一金屬膜片和所述的第一壓電陶瓷環片通過粘結劑粘結在一起；所述的第一壓電陶瓷環片上設有第一通孔；所述的第一金屬膜片上設有第一密集霧化孔區域，第一密集霧化孔區域位置和第一通孔位置對應，且第一密集霧化孔區域的面積小于等于第一通孔的面積；所述第一密集霧化孔區域的霧化孔朝向第一通孔一側為第一開口，霧化孔背向第一通孔一側為第二開口；第一開口直徑小于第二開口直徑；上述霧化口的直徑由第一密集霧化孔區域中心向外側不斷增大。

第二種壓電陶瓷超聲霧化片，其特征在于：包括有第二金屬膜片和第二壓電陶瓷環片及第三壓電陶瓷環片；所述的第二壓電陶瓷環片和第三壓電陶瓷環片位于所述的第二金屬膜片的兩側；所述的第二金屬膜片和所述的第二壓電陶瓷環片、第三壓電陶瓷環片通過粘結劑粘結在一起；所述的第二壓電陶瓷環片上設有第二通孔，所述的第三壓電陶瓷環片上設有第三通孔，所述的第二金屬膜片上設有第二密集霧化孔區域，第二密集霧化孔區域位置和第二通孔、第三通孔位置對應，且第二密集霧化孔區域的面積小于等于第二通孔、第三通孔的面積；所述第二密集霧化孔區域的霧化孔朝向第二壓電陶瓷環片一側或第三壓電陶瓷環片一側的開口為霧化口，上述霧化口的直徑由第二密集霧化孔區域中心向外側不斷增大。

第三種壓電陶瓷超聲霧化片，其特征在于：包括有第三金屬膜片、第四金屬膜片和第四壓電陶瓷環片、第五壓電陶瓷環片、第六壓電陶瓷環片；所述的第四壓電陶瓷環片、第三金屬膜片、第五壓電陶瓷環片、第四金屬膜片和第六壓電陶瓷環片依次粘結在一起，所述的第三金屬膜片上設有第三密集霧化孔區域；所述的第四金屬膜片上設有第四密集霧化孔區域；所述的第四壓電陶瓷環片上設有第四通孔；所述的第五壓電陶瓷環片上設有第五通孔；所述的第六壓電陶瓷環片上設有第六通孔；所述的第三霧化孔區域、第四密集霧化孔區域和所述的第四通孔通孔、第五通孔、第六通孔之間的位置對應并對齊；所述的第四通孔、第五通孔、第六通孔的面積大于等于所述的第三霧化孔區域、第四霧化孔區域的面積；所述的第三金屬膜片上的霧化孔的霧化口的朝向和第四金屬膜片上的霧化孔的霧化口的朝向相同；上述第三金屬膜片上的霧化口的直徑由第三密集霧化孔區域中心向外側不斷增大，第四金屬膜片上的霧化口的直徑由第四密集霧化孔區域中心向外側不斷增大。

更進一步地，所述的通孔為圓形，或矩形，或橢圓形，或其他形狀。

更進一步地，所述金屬膜片上分布的密集霧化孔的形狀可以錐形的，也可以是圓弧母線錐狀孔（孔形狀的外圍母線是弧線而不是直線）。

更進一步地，所述的霧化孔的霧化開口的變化不一定是嚴格線性的。孔徑增加過程可以視金屬膜片的彎曲變形情況進行確定。

本發明提出的內外不等徑壓電陶瓷超聲霧化片是在考慮了霧化片中金屬膜片變形不均的情況，通過利用彎曲變形不均的作用效果提出來的。在不同的變形作用下，霧化孔結構參數發生改變，通過利用這個改變設計出不同孔徑的霧化孔實現了霧化顆粒的均勻化，提高霧化效果。

有益效果

通過利用霧化片中金屬膜片彎曲變形分布不均，充分利用金屬膜片彎曲不均的作用效果，設計出一種內外不等徑霧化孔壓電陶瓷超聲霧化片。與現階段使用的壓電陶瓷超聲霧化片工作情況相比，本發明在工作中可以很好的實現霧化顆粒的大小均勻，霧化效果理想。

說明書附圖

圖1現階段使用的壓電陶瓷超聲霧化片結構示意圖

圖2壓電陶瓷超聲霧化片運動效果圖（向下彎曲）

圖3壓電陶瓷超聲霧化片運動效果圖（向上彎曲）