[發明專利]一種用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置有效
| 申請號: | 201310233117.X | 申請日: | 2013-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN103334092A | 公開(公告)日: | 2013-10-02 |
| 發明(設計)人: | 羅才旺;魏唯;陳特超;羅宏洋 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十八研究所 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113 | 代理人: | 馬強;李發軍 |
| 地址: | 410111 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 金屬 有機化學 沉積 反應器 管道 冷卻 氣體 分布 裝置 | ||
1.一種用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,包括位于反應腔室(103)上方的氣體噴射板(210),該氣體噴射板(210)上方設有氣體連接板(216),在所述氣體噴射板(210)與氣體連接板(216)之間設有至少三個層疊的氣體分布板(212、214、215);其特征在于,在所述氣體噴射板(210)與最下層的氣體分布板(212)之間、相鄰兩層氣體分布板之間均設置有冷卻液管道(211、213、217、218);所述氣體連接板(216)上設置有若干氣體接口(202、203、206)、測量儀安裝窗口(205)以及與所述冷卻液管道(211、213、217、218)連通的冷卻液進出口(201、207),且所述氣體噴射板(210)、氣體分布板(212、214、215)、氣體連接板(216)疊加在一起后形成若干相互獨立的氣體通道(303c、307c、305c),該氣體通道包括第一前體氣體通道(307)、第二前體氣體通道(303)和載氣通道(305);所述氣體噴射板(210)的上側面、氣體連接板(216)的下側面以及各氣體分布板(212、214、215)的上、下側面均設有用于容納冷卻液管道(211、213、217、218)的兩個凹槽(308a,301b、302b),兩個凹槽(308a)之間通過狹縫(305e)隔開,在所述凹槽(308a,301b、302b)內冷卻液管道折彎水平布置;所述測量儀安裝窗口(205)內設有與氣體接口連通的狹縫(305e);所述氣體連接板(216)和各氣體分布板(212、214、215)上均設有冷卻液管道安裝通孔。
2.根據權利要求1所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述氣體分布板(212、214、215)有三塊。
3.根據權利要求1或2所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述凹槽(308a,301b、302b)的橫截面為半圓形,半圓形的弦與所述狹縫(305e)共線。
4.根據權利要求1或2所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述冷卻液管道(211、213、217、218)的數量為1-16根。
5.根據權利要求4所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,當冷卻液管道為多根時,多根冷卻液管道(211、213、217、218)為相互獨立的冷卻通道。
6.根據權利要求1或5所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述冷卻液管道與氣體噴射板(210)、氣體連接板(216)、氣體分布板(212、214、215)之間的連接采用真空擴散焊接連接或真空熔焊連接或與所述凹槽定位連接。
7.根據權利要求1或2所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述凹槽(308a,301b、302b)的橫截面為半橢圓形或多邊形。
8.根據權利要求1或2所述的用于金屬有機化學氣相沉積反應器的管道冷卻式氣體分布裝置,其特征在于,所述測量儀安裝窗口(205)安裝有晶片翹曲度測量探頭。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





