[發(fā)明專利]背離率的計算方法和二次離子質(zhì)譜分析方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310232003.3 | 申請日: | 2013-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN104237279B | 公開(公告)日: | 2017-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 史江北;李震遠;鄭曉剛;李愛民;劉競文 | 申請(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/225 | 分類號: | G01N23/225 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李時云 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 背離 計算方法 二次 離子 譜分析 方法 | ||
1.一種背離率的計算方法,用于檢測離子注入工藝參數(shù),其特征在于,包括:
提供待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品,并將所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品整合在同一坐標(biāo)系中,所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品皆為離子注入后獲取的二次離子質(zhì)譜分析坐標(biāo)圖像;
在保證區(qū)域面積和曲率不變的情況下,對所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品進行高斯平滑處理;
將處理后的待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品做點對點除法處理,得到擬合曲線;
在所述擬合曲線中限定可用區(qū)域,結(jié)合由所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品所決定的噪音區(qū)域、離子注入濃度相差最大的區(qū)域,包括至少95%的離子注入量及所述擬合曲線的縱坐標(biāo)可用值限定可用區(qū)域;
由所述可用區(qū)域獲得所述背離率,在所述可用區(qū)域中定義點a、b、c,分別計算a、b兩點和b、c兩點的斜率,并取絕對值最大的一個斜率的絕對值作為背離率;
其中,在所述背離率小于等于1時,所述背離率與離子注入角度偏差成正比。
2.如權(quán)利要求1所述的背離率的計算方法,其特征在于,所述點對點除法處理為同一橫坐標(biāo)所對應(yīng)的待測樣品的縱坐標(biāo)除以標(biāo)準(zhǔn)樣品的縱坐標(biāo)。
3.如權(quán)利要求1所述的背離率的計算方法,其特征在于,所述擬合曲線的縱坐標(biāo)值可用值的范圍為0.55~1.45。
4.如權(quán)利要求1所述的背離率的計算方法,其特征在于,將所述可用區(qū)域沿橫坐標(biāo)方向三等分分為三個區(qū)域,對每個區(qū)域中的所有點的坐標(biāo)取平均值,分別得到a、b、c三點的坐標(biāo)。
5.一種二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,包括:
由如權(quán)利要求1~4任一項所述的方法算得背離率;
定義所述背離率的限值;
由所述背離率和所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品的離子注入劑量偏差判斷二次離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)是否合格。
6.如權(quán)利要求5所述的二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,所述背離率的限值為0.96。
7.如權(quán)利要求5所述的二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品的離子注入劑量偏差的限值為3%。
8.如權(quán)利要求5所述的二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,所述判斷二次離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)是否合格包括:
若所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品的離子注入劑量偏差大于限值,則二次離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)不合格,離子注入情況存在異常;
若所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品的離子注入劑量偏差小于等于限值,背離率大于限值,則二次離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)不合格,離子注入情況存在異常;
若所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品的離子注入劑量偏差小于等于限值,背離率小于等于限值,則二次離子質(zhì)譜數(shù)據(jù)合格。
9.如權(quán)利要求5所述的二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,在將所述待測樣品和標(biāo)準(zhǔn)樣品整合在同一坐標(biāo)系中之前,還包括:檢測所述標(biāo)準(zhǔn)樣品的可靠性。
10.如權(quán)利要求9所述的二次離子質(zhì)譜分析方法,其特征在于,檢測所述標(biāo)準(zhǔn)樣品的可靠性包括:
將與所述標(biāo)準(zhǔn)樣品來自同一標(biāo)準(zhǔn)片產(chǎn)生的之前任一合格樣品進行比較,判斷所述標(biāo)準(zhǔn)樣品和所述合格樣品的離子注入劑量偏差,若所述標(biāo)準(zhǔn)樣品和所述合格樣品的離子注入劑量偏差小于等于1%,則認可所述標(biāo)準(zhǔn)樣品,反之,調(diào)用另一標(biāo)準(zhǔn)樣品進行該操作,直至所述標(biāo)準(zhǔn)樣品被認可。
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