[發明專利]一種連續電除鹽裝置的清洗方法

有效

• 申請號: 201310231013.5
• 申請日: 2013-06-13
• 公開（公告）號: CN103272480A
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發明（設計）人: 李鵬飛;韓興國;姚克明;武海龍;王瑞紅
• 申請（專利權）人: 山西太鋼不銹鋼股份有限公司
• 主分類號: B01D65/06
• 分類號: B01D65/06;C02F1/469
• 代理公司: 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101
• 代理人: 盧茂春

技術領域

本發明屬于鍋爐補給水處理技術領域。具體涉及一種連續電除鹽裝置的清洗方法。?

背景技術

2×300MW發電機組配套鍋爐補給水處理系統，采用微濾+一級反滲透膜＋二級反滲透膜＋CEDI的全膜法制水工藝，對原水進行脫鹽處理，使最終產水達到除鹽水標準。?CEDI即是連續電除鹽裝置，是在直流電作用下，使陰陽離子定向移動，穿過半透膜，最終去處水中鹽分。使用CEDI對RO（反滲透）產水進行深度除鹽，能夠達到高純水水質（二氧化硅≤20μg/L，電導率≤0.2μS/cm）。?

美國IONPURE公司的CEDI膜堆采用淡水室和濃水室均裝填樹脂的獨特工藝，以提高稀溶液中的離子遷移速度，減少濃水室帶有隔網的膜堆的膜堆電阻，從而提高水的回收率。?

但是系統長期使用后，CEDI電壓會因為系統內部污染物累積而上升，電阻增大，電耗增加，還有可能影響到產水水質。?

利用高PH清洗液可以將有機和生物污染物清洗去除。為了防止樹脂中的硬度離子在高PH清洗中形成沉淀，過去是通過在高PH清洗前先用低PH清洗的方法來實現。但是有研究表明，低PH的清洗劑能硬化有機和生物污染物。?

發明內容

為了保證CEDI的正常、高效運轉，有效去除膜堆中的有機污染物，本發明提供一種連續電除鹽裝置的清洗方法。?

本發明的技術方案：?

通過對比酸堿溶液對有機物去除方面的效果，確定利用高pH清洗液對CEDI膜堆的離子交換膜和離子交換樹脂的有機和生物污染物進行清除，在高PH清洗液循環前應首先把樹脂中的硬度離子去除，防止其在高PH清洗中形成沉淀。而去除硬度離子可以靠用中性的NaCl溶液沖洗做到。

本發明使用5％氯化鈉對系統進行沖洗，去除樹脂中的硬度離子，之后再用5％氯化鈉/2％氫氧化鈉混合液對CEDI系統進行清洗，該溶液能有效去除膜堆中的有機污染物。?

第一步：系統沖洗?

停運CEDI，關閉進水閥和產水閥，切斷整流器輸入電源。清洗箱內注滿連續電除鹽產水，啟動清洗泵沖洗清洗管路至干凈。（清洗泵出口安裝有保安過濾器時，應更換新濾芯，并沖洗干凈）

第二步：氯化鈉溶液沖洗。

清洗溶液及所需藥劑量由膜堆數量及清洗箱容積決定。以33支膜堆(型號：IP—LXM30X-3)為一組進行清洗為例：?

（1）關閉清洗箱的排水閥；

（2）向清洗箱內注入所需體積的水，水量為清洗箱容積的50%（本例中為4m3）；

（3）完全打開清洗泵吸入閥和清洗泵旁路閥；

（4）啟動清洗泵；

（5）將200kg分析純氯化鈉溶解在清洗箱中；

（6）當分析純氯化鈉溶解后，打開產水排放閥和濃水排放閥；然后打開清洗泵出口閥，同時關閉清洗泵旁路閥，并將淡水和濃水流量調至指定的數值，淡水流量取正常推薦流量的一半，濃水流量為淡水流量的一半（本例中淡水和濃水流量分別設置為56m3/h和28m3/h）；?

（7）清洗箱至低液位時，停止清洗泵；

（8）清洗箱內注入除鹽水，對系統進行沖洗，至少5分鐘；

第三步：氯化鈉/氫氧化鈉混合溶液循環清洗。

（1）關閉清洗箱的排水閥；?

（2）向清洗箱內注入所需體積的水，水量為清洗箱容積的50%（本例中為4m3）；

（3）完全打開清洗泵吸入閥和清洗泵旁路閥；

（4）啟動清洗泵；

（5）將200kg分析純氯化鈉和80kg分析純氫氧化鈉溶解在清洗水箱中，使清洗水箱中的溶液為分析純溶液，加熱至40～45℃；

（6）打開清洗泵出口閥，同時關閉清洗泵旁路閥，并將淡水和濃水流量調至指定的數值，淡水流量取正常推薦流量，濃水流量為淡水流量的一半（本例中淡水和濃水流量分別設置為112m3/h和56m3/h）；?

（7）將分析純溶液在膜堆中循環30-60分鐘（本例中為60分鐘）；

（8）浸泡12小時；?

（9）將分析純溶液在膜堆中循環30-60分鐘（本例中為30分鐘）；

（10）將清洗系統內溶液排放。清洗箱內注入除鹽水，對系統進行沖洗；?

第四步：還原備用。