[發明專利]一種復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料及其制備方法

無效

• 申請號: 201310229388.8
• 申請日: 2013-06-08
• 公開（公告）號: CN103319920A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發明（設計）人: 程旭東;方蒼松;向泓宇;柳敏志;張樸;孟曉明;陸偉
• 申請（專利權）人: 武漢理工大學
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D7/12;C09D5/03
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 崔友明

1.一種復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料，其包括有基相組分A、基相組分B、粘結組分、固體潤滑組分和造孔組分經復合制成，所述的各組分含量為：基相組分A60～70wt%，基相組分B15～20wt%，粘結組分5～15wt%，固體潤滑組分1～3wt%，造孔組分5～8wt%。

2.根據權利要求書1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料，其特征在于所述的基相組分A為粒徑20～60nm的納米級氧化釔部分穩定氧化鋯Y-PSZ；基相組分B為粒徑0.5～5μm的微米級氧化釔部分穩定氧化鋯Y-PSZ。

3.根據權利要求書1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料，其特征在于所述的所述的粘結組分為納米氧化鋁，其中選用的是高溫穩定的α-Al₂O₃，納米氧化鋁的粒度為15～30nm。

4.根據權利要求書1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料，其特征在于所述的固體潤滑組分為六方氮化硼，其粒度為0.5～2μm；所述的造孔組分為聚苯酯，其粒度為20～38μm。

5.權利要求1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1）配料：按重量百分比稱取原料粉末基相組分A60～70wt%，基相組分B15～20wt%，粘結組分5～15wt%，固體潤滑組分1～3wt%，造孔組分5～8wt%，混合均勻；

2）混料：取相當于原料粉末重量的2～5wt%的糊精，加入原料粉末中混合均勻，然后加入原料粉末重量的70～80wt%的水，調配成料漿；

3）噴霧造粒：將步驟2）所得到的料漿在噴霧造粒塔內經霧化干燥，噴霧造粒塔溫度控制在110～320℃，制成空心團聚粉末；

4）篩分：將步驟3）所得到的團聚粉末過篩，取30～90μm的團聚粉末，即為復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料產品。

6.根據權利要求書5所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料的制備方法，其特征在于所述的基相組分A為粒徑20～60nm的納米級氧化釔部分穩定氧化鋯Y-PSZ，納米氧化鋯的含量占93～95mol%，納米氧化釔的含量占5～7mol%；基相組分B為粒徑0.5～5μm的微米級氧化釔部分穩定氧化鋯Y-PSZ，微米氧化鋯的含量占93～95mol%，納米氧化釔的含量占5～7mol%，所述的微米氧化鋯均為電熔型破碎氧化鋯。

7.根據權利要求書1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料的制備方法，其特征在于所述的所述的粘結組分為納米氧化鋁，其中選用的是高溫穩定的α-Al₂O₃，納米氧化鋁的粒度為15～30nm。

8.根據權利要求書1所述的復合微-納米氧化鋯基高溫可磨耗封嚴涂層材料的制備方法，其特征在于所述的固體潤滑組分為六方氮化硼，其粒度為0.5～2μm；所述的造孔組分為聚苯酯，其粒度為20～38μm。