[發明專利]微機械可調法布里?珀羅干涉儀裝置及其生產方法

有效

• 申請號: 201310229267.3
• 申請日: 2013-06-08
• 公開（公告）號: CN103487931B
• 公開（公告）日: 2017-11-14
• 發明（設計）人: 亞爾科·安蒂拉;馬爾蒂·布盧姆伯格
• 申請（專利權）人: VTT技術研究中心
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00;G01J3/26
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 余剛,吳孟秋

1.一種具有孔徑(160)的法布里-珀羅干涉儀裝置，所述孔徑允許輻射透過，所述裝置包括電可調法布里-珀羅干涉儀，所述電可調法布里-珀羅干涉儀具有：

基板(100)，

第一鏡結構(101至105)，在所述基板的一個表面上，

第二活動鏡結構(111至115)，其中，所述第一鏡結構和第二活動鏡結構分別包括平行的第一鏡和第二鏡，

法布里-珀羅腔(150)，位于所述第一鏡和第二鏡之間，

電極，用于電氣控制所述第一鏡和第二鏡之間的距離，

其特征在于

所述裝置在所述基板的另一表面上包括至少一個另外的鏡結構(121至125,131至135)，用于在所述裝置的所述孔徑(160)內形成參考法布里-珀羅干涉儀，用于補償利用所述電可調法布里-珀羅干涉儀進行的測量。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置在所述基板(100)的所述另一表面上包括兩個另外的鏡結構，所述兩個另外的鏡結構為第三鏡結構(121至125)和第四鏡結構(131至135)，在所述第三鏡結構和第四鏡結構之間具有確定的間隙(165)，其中，所述間隙用作腔，并且所述第三鏡結構和第四鏡結構用作所述參考法布里-珀羅干涉儀的鏡。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述第三鏡結構和第四鏡結構之間的間隙(165)包括固體材料。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述參考法布里-珀羅干涉儀包括所述電可調法布里-珀羅干涉儀的所述第一鏡結構(101至105)、作為腔的所述基板(100)、以及在所述基板的所述另一表面上一個另外的鏡結構(121至125)。

5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述基板(100)在所述參考法布里-珀羅干涉儀的區域包括多個阱，其中，所述另外的鏡結構至少部分位于所述阱的底部表面。

6.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述參考法布里-珀羅干涉儀覆蓋所述孔徑的一部分，其中，所述孔徑的中央區域沒有所述參考法布里-珀羅干涉儀的層，并且所述參考法布里-珀羅干涉儀延伸到所述裝置的所述孔徑的邊緣區域(162)。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括被圖案化用于形成所述孔徑的材料層(140)，其中，圖案化的所述材料層位于所述參考法布里-珀羅干涉儀的另外的鏡結構(121至125,131至135)上，并且圖案化的所述材料層在所述干涉儀的工作范圍內不傳輸輻射。

8.一種用于生產法布里-珀羅干涉儀裝置的方法，其中：

設置基板(11)，

在所述基板的一個表面上設置第一鏡結構(12、13)，

設置第二活動鏡結構(15至17)，其中，所述第一鏡結構和第二活動鏡結構分別包括平行的第一鏡和第二鏡，

在所述第一鏡和第二鏡之間提供法布里-珀羅腔，

設置電極，用于電氣控制所述第一鏡和第二鏡鏡之間的距離，

其特征在于

在所述基板的另一表面上設置至少一個另外的鏡結構，用于提供參考法布里-珀羅干涉儀(12、17)，用于補償利用電可調法布里-珀羅干涉儀進行的測量。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，與針對所述電可調法布里-珀羅干涉儀(12、17)的鏡結構的層同時地沉積針對所述參考法布里-珀羅干涉儀的鏡結構的層。