[發明專利]聚丙烯型光學保護膜

有效

• 申請號: 201310228933.1
• 申請日: 2013-06-09
• 公開（公告）號: CN103336321A
• 公開（公告）日: 2013-10-02
• 發明（設計）人: 王煥清;羅建民;武冬瑞;盧長偉;劉兵;倪玉良
• 申請（專利權）人: 湖北慧獅塑業股份有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B1/04;B32B27/08;B32B27/18;B32B27/30;B32B27/32;C08L53/00;C08K5/20;C08L23/14;C08L23/12;C08L23/08
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技術領域

本發明涉及一種保護膜，尤其是一種通過流延工藝生產的聚丙烯型光學保護膜。

背景技術

????保護膜是一種用來保護易損害表面的薄膜。其目的是防止受保護基材表面在運送、裝配、或加工過程當中受到損害或污染，保護膜會一直貼在受保護基材表面，直到產品送達使用者時才被撕下拋棄。

光學薄膜系指在光學元件或獨立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質膜或金屬膜或這兩類膜的組合，以改變光波之傳遞特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經由適當設計可以調變不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。如增光片、偏光片等薄膜就是叫常用的光學薄膜。

????光學薄膜在使用的過程中通常為了保護薄膜表面不被損傷，就需要使用專用的光學保護膜進行表面保護。光學保護膜需要具有如下的特性：適當而穩定的粘性；?容易撕下，且撕下后無殘膠、不留影；?長時間貼合后，不可有氣泡浮起或翹邊；薄膜無雜質和晶點。

目前光學保護膜的生產方式主要有上膠型保護膜和一次擠出成型的自粘型保護膜。上膠型保護膜通常先用聚酯或聚烯烴制作成基膜，再在基膜上涂上一層或多層壓敏熱熔膠，組成熱熔膠的高分子材料主要有聚異丁烯、聚丙烯酸及其酯類、乙烯醋酸乙烯共聚物、聚氨酯、彈性體等，這類材料均具有較低的玻璃化轉變溫度和較低的分子量，因此在撕掉保護膜后粘結樹脂往往容易轉移并殘留在被保護體的表面上。且上膠型保護膜生產時還需要使用溶劑型膠黏劑，生產過程包括制膜、上膠、干燥，加工程序復雜，生產成本高，溶劑對環境的污染較大。且由于膠黏劑與保護膜基膜的內聚力隨著溫度的變化和時間的推移，會發生變化，從而導致粘附性能下降，當保護膜從受保護器件上撕開時極易產生殘膠。

自粘型保護膜目前生產較多的是聚乙烯型光學保護膜。而聚乙烯型保護膜一般是通過多層共擠吹塑工藝生產的，聚乙烯耐溫性能差，在生產過程中易裂解而產生晶點和炭化點，使保護膜與被保護器件的表面接觸就會不平整，容易在接觸處產生氣泡或翹邊，且保護膜薄膜的晶點和碳化點容易將光學膜表面壓傷。此外，聚乙烯型保護膜的粘性強度會隨著環境溫度高低的變化而變化，溫度越高粘性越強，越難以撕開，嚴重的根本無法撕開，影響了被保護產品的正常使用；而溫度越低，粘性越差，低溫時會出現部分或整體脫落的現象，達不到保護產品的目的。穩定性差已經成為阻礙聚乙烯自粘保護膜發展的重要因素。

發明內容

本發明的目的是提供一種聚丙烯型光學保護膜，以解決現有聚乙烯自粘保護膜穩定性差、耐溫性能差、加工程序復雜，生產成本高等技術問題。

本發明主要是通過下述技術方案得以解決上述技術問題的：一種聚丙烯型光學保護膜，該保護膜由爽滑層、芯層和自粘層組成，總厚度為20-70微米，所述爽滑層厚度占總厚度比為10%-20%，芯層厚度占總厚度比為40%-60%，自粘層厚度占總厚度比為10%-30%；

所述爽滑層由下列重量比組分制成：丙烯嵌段共聚物100份和高純芥酸酰胺爽滑劑0.1-0.25份組成；

所述芯層由下列重量比組分制成：丙烯嵌段共聚物100份、茂金屬催化的丙烯基-α-烯烴共彈性體10-50份以及0.1-0.3份的抗靜電劑組成；

所述自粘層由下列重量比組分制成：茂金屬催化聚丙烯100份、茂金屬催化的丙烯基-α-烯烴共彈性體50-150份、乙烯醋酸乙烯酯共聚物10-50份。

作為優選，所述丙烯嵌段共聚物為丙烯二元嵌段共聚物或丙烯三元嵌段共聚物。

作為優選，所述二元嵌段共聚或三元嵌段共聚物中，所述乙烯含量為5%-15%。

作為優選，所述茂金屬催化的丙烯基-α-烯烴共彈性體為α-烯烴為C4-C8的烯烴與丙烯共聚物。

作為優選，所述α-烯烴為C4-C8的烯烴與丙烯共聚物中，共聚單體含量為18-22%。

上述三層原料分別在密閉的容器中進行拌料，再經過專用的真空吸料裝置分別輸送入三臺擠出機料倉中進行熔融，其中每臺擠出機與模頭的連接段均有一濾網過濾器對熔體進行過濾，避免未熔融物和晶點進入模頭。三臺擠出機的熔體在模頭連接器中進行組合，再經模頭擠出、流延冷卻、再加熱結晶定型、在線分切和收卷包裝，得到最終保護膜產品。