[發(fā)明專利]具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310228911.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103344381A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 江俊峰;劉鐵根;尹金德;劉琨;鄒盛亮;王雙;秦尊琪;吳凡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01L21/00 | 分類號(hào): | G01L21/00 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 李素蘭 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 臺(tái)階 范圍 光纖 真空 傳感器 及其 制作方法 | ||
1.一種具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器,包括傳感器頭、傳感器體(5)和傳輸光纖(7)、以及傳感器的支撐結(jié)構(gòu)和傳輸光纖的容納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述傳感器頭為臺(tái)階式光纖真空傳感器頭,具有雙層結(jié)構(gòu),第一層結(jié)構(gòu)為單晶硅晶圓片(2),第二層結(jié)構(gòu)為Pyrex玻璃晶圓片(3);其中:?
所述單晶硅晶圓片(2)作為彈性膜片,感受壓力,單晶硅晶圓片前表面(9)具有SiO2氧化層臺(tái)階(1)且經(jīng)光刻腐蝕,單晶硅晶圓片后表面(10)構(gòu)成法布里-珀羅腔(8)的第二個(gè)反射面;?
所述Pyrex玻璃晶圓片的Pyrex玻璃晶圓片前表面(16)具有兩級(jí)臺(tái)階式的圓形淺坑陣列,其被切割成表面為正方形或其他多邊形的單個(gè)傳感器頭單元,該圓形淺坑陣列包括圓形淺坑第一臺(tái)階(14)和圓形淺坑第二臺(tái)階(15);圓形淺坑第二臺(tái)階(15)底部鍍的反射膜(17)作為法布里-珀羅腔(8)的第一個(gè)反射面;Pyrex玻璃晶圓片后表面(12)具有圓形淺坑(13),與前述圓形淺坑陣列的位置同心,共軸,用于對(duì)光纖的定位;?
所述傳感體(5)中間具有軸向通孔,遠(yuǎn)離傳感頭的一端設(shè)置有與軸向通孔同心、同軸的喇叭口,傳感器體前表面與傳感器頭后表面通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂膠膠合在一起;?
所述傳輸光纖(7)穿過(guò)傳感器體(5)中間的軸向通孔,其前端面置于傳感器頭后表面的圓形淺坑(13)內(nèi),將傳輸光纖定位緊密貼合于傳感器體,該傳輸光纖用來(lái)傳輸入射光和出射光;?
所述單晶硅片(2)后表面與所述Pyrex玻璃片前表面淺坑第二級(jí)臺(tái)階底面之間的距離決定法布里-珀羅腔的初始長(zhǎng)度。?
2.如權(quán)利要求1所述的具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器,其特征在于,用于傳感器的支撐結(jié)構(gòu)和傳輸光纖的容納結(jié)構(gòu)的形狀為圓柱形或長(zhǎng)方體形,傳感器的中間開(kāi)有一個(gè)軸向通孔,制作材料是Pyrex玻璃或者K9玻璃材料。?
3.如權(quán)利要求1所述的具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器,其特征在于,傳輸光纖的種類包括單模光纖和多模光纖。?
4.如權(quán)利要求1所述的具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器的制作方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:?
步驟(1)、對(duì)4英寸Pyrex玻璃晶圓片(3)雙面拋光減薄,厚度為200μm~400μm,?用H2SO4和H2O2溶液進(jìn)行清洗;?
步驟(2)、對(duì)清洗后的Pyrex玻璃晶圓片(3)進(jìn)行表面第一次腐蝕,在Pyrex玻璃晶圓片前表面(16)腐蝕出圓形淺坑第一臺(tái)階14,直徑為1200μm~1900μm,深度為1μm~5μm;?
步驟(3)、對(duì)Pyrex玻璃晶圓片(3)進(jìn)行表面第二次腐蝕,在Pyrex玻璃晶圓片前表面(16)再腐蝕出圓形淺坑第二臺(tái)階(15),直徑為500μm~800μm,與第一臺(tái)階(14)的垂直距離為20μm~40μm,在圓形淺坑第二臺(tái)階(15)淺底部鍍反射率為10%~50%的反射膜(17),作為法布里-珀羅腔的第一反射面;?
步驟(4)、對(duì)Pyrex玻璃晶圓片3進(jìn)行表面第三次腐蝕,在Pyrex玻璃晶圓片后表面(12)腐蝕出圓形淺坑(13),直徑為180μm~300μm,深度為30μm~40μm;保證與前述兩個(gè)圓形淺坑陣列的位置同心、共軸;?
步驟(5)、將厚度為15μm~35μm的單晶硅晶圓片(2)雙面進(jìn)行拋光清洗之后,在高真空環(huán)境下,采用陽(yáng)極鍵合的方式,將單晶硅晶圓片后表面(10)與Pyrex玻璃晶圓片前表面(16)貼合在一起進(jìn)行鍵合,然后對(duì)單晶硅晶圓片前表面(9)進(jìn)行氧化處理,得到SiO2氧化層,再通過(guò)光刻腐蝕在單晶硅晶圓片前表面(9)得到SiO2氧化層臺(tái)階(1),其中單晶硅晶圓片后表面(10)作為法布里-珀羅腔的第二個(gè)反射面,從而得到具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器頭陣列晶圓片;?
步驟(6)、采用劃片機(jī)將4英寸傳感器頭的兩級(jí)臺(tái)階式的圓形淺坑陣列的晶圓片進(jìn)行劃片處理,切割成表面為正方形或其他多邊形的單個(gè)傳感器頭單元;?
步驟(7)、利用Pyrex玻璃或熔融石英材料制作傳感器體(5),首先將傳感器體(5)制作成外徑2.5mm~4mm,長(zhǎng)度為5mm~15mm的圓柱體形或長(zhǎng)方體形,在傳感器體的軸向中部鉆出直徑為127μm的軸向通孔(6),并在傳感器體后表面通孔邊緣一端鉆出一個(gè)錐度為10°~20°、深度為2mm~3mm的喇叭口;?
步驟(8)、將傳輸光纖(7)從傳感器體(5)喇叭口一端插入,并在傳感器體前表面(11)涂環(huán)氧樹(shù)脂膠,將傳感器頭芯片的Pyrex玻璃晶圓片后表面與環(huán)氧樹(shù)脂膠接觸,同時(shí)使圓形淺坑陣列(13)與傳感器體(5)的軸向通孔(6)對(duì)準(zhǔn),推動(dòng)光纖(7)向前進(jìn)入圓形淺坑陣列(13),并與圓形淺坑陣列(13)的底部頂緊;?
步驟(9)、對(duì)傳輸光纖(7)套上光纖保護(hù)套,并在傳感器體(5)的尾部喇叭口中涂環(huán)氧樹(shù)脂膠,在電熱箱中60℃溫度下固化1小時(shí),或者在常溫下固化24小時(shí),?完成具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器制作。?
5.如權(quán)利要求4所述的具有多臺(tái)階的寬范圍光纖真空傳感器的制作方法,其特征在于,傳輸光纖的種類包括單模光纖和多模光纖。?
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