[發明專利]反射式鏡面面型控制裝置有效
| 申請號: | 201310226580.1 | 申請日: | 2013-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN103293662B | 公開(公告)日: | 2017-04-05 |
| 發明(設計)人: | 黃磊;鞏馬理;閆平;柳強;薛嶠;馮澤心;康少男;閆海波 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | G02B26/06 | 分類號: | G02B26/06 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201 | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 面面 控制 裝置 | ||
1.一種反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,包括:
至少一個鏡片,所述鏡片在接受作用力而產生形變,形變后的面形對照射在其上的光束的波前陣面有整形作用;
底座,所述底座與所述鏡片相連,用于接受加熱/制冷單元的能量變化而產生形變,并將形變作用在所述鏡片上;
至少一個所述加熱/制冷單元,所述加熱/制冷單元與所述底座相連,用于為所述底座的形變提供溫度條件;
至少一個溫度探測器,所述溫度探測器與所述底座相連,用于探測經加熱/制冷單元傳到在底座上發生的溫度變化值,以便進行控制調節。
2.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述鏡片與所述底座之間為直接相連,或者通過鏡柱間接相連。
3.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述加熱/制冷單元均勻分布或非均勻分布地安裝在所述底座的內部或表面。
4.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述溫度探測器均勻分布或非均勻分布地安裝在所述底座的內部或表面。
5.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述鏡片的厚度等于或大于或小于所述底座的厚度。
6.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述底座中具有開槽,所述開槽用于改變所述底座的可形變調整區域。
7.如權利要求1所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述鏡片包括多個子鏡片疊加而成,和/或,所述底座包括多個子底座疊加而成。
8.如權利要求1-7所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述鏡片和所述底座的線脹系數不同。
9.如權利要求8所述的反射式鏡面面型控制裝置,其特征在于,所述鏡片的材料為石英或玻璃。
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