[發(fā)明專利]校準(zhǔn)設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310225273.1
• 申請日: 2013-06-07
• 公開（公告）號: CN103728323B
• 公開（公告）日: 2017-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姜聲訓(xùn);姜東求;金圣洙;成映勛;吳炫和
• 申請（專利權(quán)）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11286
• 代理人: 王兆賡,張云珠

本申請要求于2012年10月16日向韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2012-0114875號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，該專利申請的公開內(nèi)容整個地通過引用并入本文。

技術(shù)領(lǐng)域

與示例性實施例一致的方法和設(shè)備涉及一種可通過使用光子計數(shù)X射線檢測器來執(zhí)行的校準(zhǔn)方法。

背景技術(shù)

光子計數(shù)X射線檢測器可針對每個光子能帶分離施加于光子計數(shù)X射線檢測器的X射線。

因為常規(guī)的積分式檢測器將由施加于常規(guī)的積分式檢測器的X射線光子產(chǎn)生的所有電信號相加，而不管光子能量如何，所以可能難以分離光子能量。

在用于光子計數(shù)檢測器的能量校準(zhǔn)的常規(guī)方法中，使用通過使用光子計數(shù)X射線檢測器測量的X射線的光譜。

在這種常規(guī)方法中，可通過下述方式來獲得X射線光譜，即，在按相等間隔改變閾值能量值的同時獲得圖像，并計算由閾值能量的改變引起的信號差。

在示例中，可通過下述方式來執(zhí)行使用X射線的光譜的能量校準(zhǔn)方案，即，將X射線管設(shè)置在預(yù)定的加速電壓峰值千伏電壓（kVp），在照射X射線的同時使用光子計數(shù)X射線檢測器來測量X射線光譜，并將該光譜具有值“0”的位置映射到預(yù)定的加速電壓。

然而，在這個示例中，因為難以精確地測量所述位置，所以映射的精確性可能降低。

在另一個示例中，可通過下述方式來執(zhí)行能量校準(zhǔn)方案，即，使具有吸收限的材料成像在所用的X射線能量區(qū)中，并將在獲取的光譜中測量的吸收限的位置映射到實際材料的吸收限的能量。

然而，在這個示例中，由于對于吸收限的位置測量精確性的限制，因此通過使用光子計數(shù)X射線檢測器測量的值的均勻性可能降低。

在又一個示例中，可通過下述方式來執(zhí)行能量校準(zhǔn)方案，即，在測量在放射性同位素中產(chǎn)生的X射線的同時獲得光譜，并將同位素的預(yù)定能量映射到該光譜的峰值。

然而，在這個示例中，能量校準(zhǔn)方案需要用于管理高放射性同位素的額外儀器。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)一個或多個示例性實施例，可提供一種校準(zhǔn)設(shè)備，該校準(zhǔn)設(shè)備包括：圖像產(chǎn)生器，產(chǎn)生至少一個成像對象的圖像；設(shè)置器，基于通過產(chǎn)生所述至少一個成像對象的圖像而獲得的結(jié)果來設(shè)置與電脈沖的幅值相關(guān)的閾值；校準(zhǔn)器，映射并校準(zhǔn)與至少一個校準(zhǔn)對象的吸收限對應(yīng)的光子能量。

所述至少一個成像對象可包括均質(zhì)材料，并且所述至少一個成像對象的幾何形狀可被設(shè)置。

所述至少一個校準(zhǔn)對象可包括這樣的材料，該材料包括相應(yīng)光子能量落在可測量的x射線光子能量的范圍內(nèi)的吸收限。

第一數(shù)量與第二數(shù)量的比率可反映所述至少一個成像對象的特性，其中，第一數(shù)量與關(guān)于所述至少一個成像對象不存在的情況的成像結(jié)果相關(guān)，第二數(shù)量與關(guān)于所述至少一個成像對象存在的情況的成像結(jié)果相關(guān)。

表示所述至少一個成像對象的圖像的歸一化強度可反映與所述至少一個成像對象的幾何形狀相關(guān)的信息。

設(shè)置器可設(shè)置與由x射線光子在至少一個像素中產(chǎn)生的電脈沖的幅值相關(guān)的閾值。

設(shè)置器可改變所述至少一個像素中的一個像素的歸一化強度值，并可將改變的歸一化強度值與另一像素的歸一化強度值匹配。

設(shè)置器可將所述至少一個像素設(shè)置為相對于預(yù)先設(shè)置的閾值能量值具有相同的歸一化強度。

校準(zhǔn)器可計算第一數(shù)量與第二數(shù)量的比率，并可提取x射線明顯衰減的位置，其中，第一數(shù)量與當(dāng)所述至少一個成像對象不存在時測量的x射線光譜相關(guān)，第二數(shù)量與當(dāng)所述至少一個成像對象存在時測量的x射線光譜相關(guān)。

所述至少一個校準(zhǔn)對象的吸收限可包括用于在提取的x射線明顯衰減的位置上形成所述至少一個校準(zhǔn)對象的材料的吸收限。

根據(jù)一個或多個示例性實施例，可提供一種校準(zhǔn)方法，該方法包括：產(chǎn)生至少一個成像對象的圖像；基于通過產(chǎn)生所述至少一個成像對象的圖像而獲得的結(jié)果來設(shè)置與電脈沖的幅值相關(guān)的閾值；以及映射并校準(zhǔn)與至少一個校準(zhǔn)對象的吸收限對應(yīng)的光子能量。

附圖說明

從以下結(jié)合附圖進行的對特定示例性實施例的詳細(xì)描述中，示例性實施例的以上方面和其他方面將變得顯然并且更容易理解，其中：

圖1是示出根據(jù)一個或多個示例性實施例的施加于光子計數(shù)X射線檢測器的X射線光子的能量與由該能量產(chǎn)生的電脈沖的幅值之間的關(guān)系的曲線圖；

圖2是示出根據(jù)一個或多個示例性實施例的校準(zhǔn)設(shè)備的構(gòu)造的框圖；

圖3是示出根據(jù)一個或多個示例性實施例的校準(zhǔn)方法的流程圖；

圖4是示出通過使用圖像產(chǎn)生器來產(chǎn)生對象的圖像的示例的示圖；