[發(fā)明專利]一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310224454.2
• 申請日: 2013-06-07
• 公開（公告）號: CN103290211A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 范祥榮
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州市金翔鈦設(shè)備有限公司
• 主分類號: C22B3/02
• 分類號: C22B3/02
• 代理公司: 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.?一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，包括上端開口的中空筒體和垂直設(shè)于所述筒體內(nèi)的兩端開口的導(dǎo)流筒，所述筒體和導(dǎo)流筒間留有間隙，所述間隙中填充填料，所述導(dǎo)流筒中還設(shè)置有曝氣裝置，其特征在于：所述曝氣裝置包括壓縮空氣管和與所述壓縮空氣管相連通的曝氣頭，所述曝氣裝置還包括至少兩個沿垂直方向分布的盤狀支架，所述盤狀支架上設(shè)置若干所述曝氣頭；所述導(dǎo)流筒筒壁設(shè)有軸向排列的多組調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，每組調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)包括周向分布的至少兩個調(diào)節(jié)孔，所述盤狀支架通過螺釘固定于導(dǎo)流筒的所述一組調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)上。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述每組調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)包括周向分布的四個調(diào)節(jié)孔。

3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述盤狀支架的周向設(shè)有四個分別徑向突出的固定條，盤狀支架的固定條通過所述螺釘與對應(yīng)調(diào)節(jié)孔相連。

4.?根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述曝氣裝置包括兩個沿垂直方向分布的盤狀支架，設(shè)置在所述盤狀支架上的曝氣頭環(huán)形分布。

5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述兩個盤狀支架上設(shè)有相同數(shù)量的所述曝氣頭，兩個盤狀支架上的對應(yīng)曝氣頭周向錯位分布。

6.?根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述盤狀支架上的曝氣頭分布呈圓環(huán)狀，一個所述盤狀支架上曝氣頭分布形成的所述圓環(huán)與另一個所述盤狀支架上曝氣頭分布形成的圓環(huán)半徑相等。

7.?根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種曝氣位置可調(diào)的氧化槽，其特征在于：所述的兩個盤狀支架中，每個盤狀支架的中部設(shè)有一個所述曝氣頭，外周環(huán)形設(shè)置有六個所述曝氣頭。