[發明專利]智能調光低輻射玻璃及其制備方法

無效

• 申請號: 201310223241.8
• 申請日: 2013-06-06
• 公開（公告）號: CN103304150A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 曾小綿;唐晶;葉光岱;梁忠
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;B32B17/06
• 代理公司: 深圳冠華專利事務所(普通合伙) 44267
• 代理人: 夏聲平

1.一種智能調光低輻射玻璃，其包括基片，其特征在于：該智能調光低輻射玻璃還包含依次形成于該基片上的透明導電組合層、無機變色層、無機鋰離子導體層、無機離子儲存層及透明導電層，其中該透明導電組合層的方塊電阻為10～30歐姆。

2.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該透明導電組合層包含一層氧化硅層以及覆蓋于該氧化硅層上的一層摻氟氧化錫層、一層摻鋁氧化鋅層或一層氧化銦錫層。

3.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該透明導電組合層的厚度為200～900nm。

4.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該透明導電組合層的厚度為300～850nm。

5.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該透明導電組合層的可見光透過率為75～90％。

6.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該無機變色層材料包含氧化鎢、氧化鎢鉬、氧化鎳釩或氧化釩鈦；該無機鋰離子導體層為含鋰離子的鎢酸鋰、磷酸鋰或鎳酸鋰；該無機離子儲存層為氧化釩鋯、氧化鈦釩、氧化鎳、氧化釩、氧化鎳釩、氧化鉬或氧化鈦；該透明導電層為摻氟氧化錫、摻鋁氧化鋅或氧化銦錫。

7.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該無機變色層的厚度為20～100nm；該無機鋰離子導體層厚度為30～600nm；該無機離子儲存層的厚度為100～400nm；該透明導電層的厚度為100～600nm。

8.如權利要求7所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該無機變色層的厚度為35～70nm；該無機鋰離子導體層厚度為100～400nm；該無機離子儲存層的厚度為80～350nm；該透明導電層的厚度為180～500nm。

9.如權利要求1所述的智能調光低輻射玻璃，其特征在于：該透明導電層的方塊電阻為12～35歐姆，可見光透過率為75～90％。

10.一種智能調光低輻射玻璃的制備方法，其包括以下步驟：

提供基片；

用CVD或用PVD沉積的方式形成透明導電組合層；

用平面陰極直流加脈沖、或雙旋轉陰極中頻交流反應磁控濺射沉積的方法形成無機變色層；

用平面陰極直流加脈沖、或雙旋轉陰極中頻交流磁控濺射沉積的方法形成鋰離子導體層；

用平面陰極直流加脈沖、或雙旋轉陰極中頻交流反應磁控濺射沉積的方法形成離子儲存層；以及

用平面陰極直流加脈沖、或雙旋轉陰極中頻交流反應磁控濺射沉積形成透明導電層。